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納米分散機,，納米研磨分散設備,，納米高剪切分散機，納米管線式分散機,，管線式研磨分散機,，IKN研磨分散機
                                
                        

對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點，納米分散存在著難以解決的問題，納米物料分散到流體物質當中容易形成二級團聚體,，導致物料粒徑變大,，難以分散。面對這種情況,，IKN研發(fā)出新型設備-研磨分散機,，應對納米物質的分散問題。并有著廣泛的實例,，如納米級白炭黑的分散,，納米級石墨烯的分散，都在使用IKN研磨分散機進行分散處理,，效果顯著,。

    CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,，我們將三級變跟為一級,，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質,。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

 

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研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品,。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離,。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。
           

  
 第二級由轉定子組成,。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要,。

納米分散機的特點

①   線速度很高，剪切間隙非常小,，當物料經過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨,。

②   定轉子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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