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硅橡膠改性分散機,，納米物料改性硅橡膠技術(shù),，硅橡膠改性設(shè)備，高剪切研磨分散機
     
硅橡膠具有優(yōu)異的耐熱性,、耐寒性和電性能,，廣泛用于電絕緣制品和密封制品等領(lǐng)域中，近幾年得到了長足發(fā)展,。隨著工業(yè)化水平的不斷提高,，人們對硅橡膠的要求也越來越高，傳統(tǒng)的硅橡膠產(chǎn)品難以滿足人們的要求,，尤其在機械性,、阻燃性和抗老化性等方面，因此,，對硅橡膠進行改性勢在必行,。

納米粒子具有量子尺寸效應(yīng)、小尺寸效應(yīng),、表面效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng),，因而展現(xiàn)出許多特有的性質(zhì)。在催化,、光吸收,、磁介質(zhì)及新材料等領(lǐng)域有良好的發(fā)展前景，在對高分子材料性能的改善與提高方面也具有巨大的發(fā)展空間,。利用納米材料作為改性劑對室溫硫化硅橡膠進行相關(guān)性能研究是一種新穎而有效的手段,，納米SiOx粒子尺寸在10-15 nm，表面原子數(shù)目多,，具有較高的表面能和表面結(jié)合能,；同時，納米SiOx粒子表面氧原子大量流失,，納米SiOx分子式中值在1．2～1．6之間,，因而粒子表面欠氧而具有不穩(wěn)定的硅氧結(jié)構(gòu)；另外,，納米SiOx粒子表面還含有大量羥基,，表面羥基值高達48％。因而利用納米SiOx對室溫硫化硅橡膠改性時將產(chǎn)生特殊的效果,。并且,，納米SiOx的主要成分與室溫硫化硅橡膠的主鏈組成相同，有利于納米材料在其中分散,。再加以高精密的分散設(shè)備的配合,，防止納米SiOx在分散中形成二級團聚體，IKN研磨分散機在納米改性硅橡膠領(lǐng)域有著豐富的經(jīng)驗，設(shè)備的結(jié)構(gòu)以及高的轉(zhuǎn)速,，可以很好的將納米物料分散到硅橡膠中,，從而更充分的改進硅橡膠的性能。        

CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級,，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì),。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

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CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。 

CMD2000系列研磨分散機的特點：

①線速度很高,，剪切間隙非常小,，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈,，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

硅橡膠改性分散機,，納米物料改性硅橡膠技術(shù)，硅橡膠改性設(shè)備,，高剪切研磨分散機