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CMD2000/4是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室小試和中試的設(shè)備,，集研磨、分散,、均質(zhì),、乳化于一體，在多個(gè)領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用,。如化工行業(yè)：白炭黑,、環(huán)氧樹脂等超細(xì)研磨分散機(jī)；食品行業(yè)：植物蛋白飲料,、膠原蛋白提取等,；都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果。

CMD2000/4實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī),，電機(jī)功率：2.2kw,，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，處理在0-200L,，設(shè)備體積較小,，可直接放置實(shí)驗(yàn)臺(tái)上操作。專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā),，模擬生產(chǎn)流程,，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同,，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同,，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號升級過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到*低,。

技術(shù)及價(jià)格請來電：賈清清13795214885   QQ：2294898886,，公司有樣機(jī)可供客戶購前實(shí)驗(yàn)，歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo),！

CMD2000/4實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備,，先研磨后分散，效率高效果好,。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,，我們將三級變跟為一級,，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì),。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

**級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強(qiáng)的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度,、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。