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納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,，是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無(wú)機(jī)產(chǎn)品，表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì),，如非遷移性,、熒光性、壓電性,、吸收和散射紫外線能力等,，利用其在光、電,、磁,、敏感等方面的奇妙性能,，可制造氣體傳感器、熒光體,、變阻器,、圖像記錄材料、壓電材料,、壓敏電阻,、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等,。
                   

納米氧化鋅的分散難點(diǎn)：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中,，容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象，導(dǎo)致物料粒徑變大,，分散效果不佳,，產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設(shè)備,，很難將納米氧化鋅分散均勻,，會(huì)出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象，團(tuán)聚體難以打開(kāi),，而如果采用IKN**研發(fā)的分散設(shè)備,，研磨分散機(jī)的話，先研磨后分散機(jī),，解決團(tuán)聚問(wèn)題,，可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級(jí)。

IKN研磨式分散機(jī),，是由膠體磨+分散機(jī)結(jié)合而成的設(shè)備,，主要是為了解決納米級(jí)物料的分散，如：納米碳酸鈣,、納米氫氧化鎂,、納米氧化鋁、石墨烯,、碳納米管等納米級(jí)物料的分散,。

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CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,，我們將三級(jí)變跟為一級(jí),，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì),。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

①   線速度很高，剪切間隙非常小,，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽,。

③   定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向,。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

納米氧化鋅研磨分散機(jī),，納米分散機(jī),，超細(xì)分散機(jī)，IKN研磨分散機(jī)納米級(jí)物料分散專家,，在鋰電池,、食品以及精細(xì)化工等領(lǐng)域有突出的應(yīng)用。