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碳納米管導電漿料及其制備方法

碳納米管導電漿料主要由碳納米管、其他導電填料,、分散助劑,、和溶劑組成，其質量百分比組成為：碳納米管：0.5-15%,，其他導電物質0.1-2%,，分散助劑：0.1-5%，其余為溶劑,。

該碳納米管導電漿料制備方法為：首先將分散助劑溶解在溶劑中,，然后在攪拌條件下加入碳納米管和其他導電填料，待碳納米管和其他導電填料充分浸潤后,，采用IKN研磨分散機對漿料進行研磨分散,，幾小時后即可得到穩(wěn)定分散的碳納米管導電漿料。本發(fā)明方法簡單,，不破壞碳納米管結構和導電性,，所制得的碳納米管導電漿料具有優(yōu)良的導電性，且性質穩(wěn)定均一,，靜置3個月后,，漿料穩(wěn)定性>90%。

對于碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散,，普遍存在著2個難以解決的問題：
  
   1,、研磨的細度，傳統(tǒng)的設備研磨設備是通過刀頭去磨細,，這樣經(jīng)常會破壞碳納米管結構和導電性,，使物料變性,。而IKN研磨分散機，細化物料更多的是通過物料與物料直接的撞擊來完成研磨細化的功能,，不會破壞物料結構。

   2,、容易形成二級團聚體,，在碳納米管粒徑細化之后，由于分子之間的作用力,，小的物料又會二次團聚,，從而影響*終產(chǎn)品的物料粒徑以及分散的效果。IKN研磨分散機很好的克服了二級團聚的現(xiàn)象,，IKN研磨分散機是研磨機和分散機一體化的設備,，在碳納米管漿料粒徑細化后，瞬間通過分散工作腔,，進行分散,，避免二次團聚的現(xiàn)象。

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   CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G,，4M，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）,。

碳納米管漿料研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離,。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。
    

第二級由轉定子組成,。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。 
             

  

碳納米管漿料研磨分散機的特點

①   線速度很高,，剪切間隙非常小,，當物料經(jīng)過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨,。

②   定轉子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。
       

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