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GAIA3 是一款完全由計(jì)算機(jī)控制的鎵離子源聚焦離子束 - 超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡,，可選配氣體注射系統(tǒng),，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的電子光學(xué)性能,，清晰的數(shù)字化圖像,，成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點(diǎn),?；?/span>Windows平臺(tái)的操作軟件提供了簡(jiǎn)單的電鏡操作和圖像采集,，可以保存標(biāo)準(zhǔn)文件格式的圖片,，可以對(duì)圖像進(jìn)行管理、處理和測(cè)量,，實(shí)現(xiàn)了電鏡的自動(dòng)設(shè)置和其它許多自動(dòng)操作,。

*重要的特性：

u  具有超高分辨率的單極60度角物鏡,；

u  無(wú)磁場(chǎng)模式用于磁性樣品的觀察,；

u  高亮度肖特基電子槍可得到高分辨率/高束流/低噪聲的圖像,；

u  鏡筒中的In-Beam二次電子探測(cè)器用于小工作距離條件下二次電子的檢測(cè)；

u  獨(dú)有的三透鏡大視野光學(xué)（Wide Field Optics^TM）設(shè)計(jì),，提供了多種工作模式和顯示模式,，體現(xiàn)了TESCAN專(zhuān)有的中間透鏡（IML）的功能,；

u  實(shí)時(shí)電子束追蹤（In-Flight Beam Tracing?）技術(shù),，模擬和實(shí)現(xiàn)電子束優(yōu)化，可直接連續(xù)控制束斑和束流大??；

u  電子束減速模式下低電壓可獲取優(yōu)秀的分辨率(選配),；

u  In-Beam背散射電子探測(cè)器用于小工作距離的背散射電子成像；

u  利于EDX,、EBSD分析的理想幾何設(shè)計(jì),；

u  由于使用了強(qiáng)力的渦淪分子泵和機(jī)械泵,，因而可以快速簡(jiǎn)單得到干凈的真空樣品室,；電子槍的真空度由離子泵來(lái)維持；

u  包括電子光學(xué)設(shè)置和校準(zhǔn)的全自動(dòng)顯微鏡設(shè)置,；

u  完善的軟件用于SEM控制,，圖像采集、存檔,、處理和分析,；多用戶多語(yǔ)言操作界面；

u  網(wǎng)絡(luò)操作和內(nèi)置的遠(yuǎn)程控制/診斷是TESCAN的標(biāo)準(zhǔn)配置,；

u  獨(dú)特的3維電子束技術(shù)用于獲得實(shí)時(shí)立體圖像,；

u  擴(kuò)展的低真空模式使樣品室真空可達(dá)500 Pa，用于非導(dǎo)電試樣的觀察,；

u  Cobra鏡筒在高束流下具有超高的分辨率和優(yōu)良的性能；

u  獨(dú)特的離子光學(xué)差異泵（兩個(gè)離子泵）可降低離子散射效應(yīng),；

u  配有高重復(fù)性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)光闌轉(zhuǎn)換器的聚焦離子束鏡筒,；

u  標(biāo)配電子束遮沒(méi)裝置和法拉第杯的離子束鏡筒；

u  自動(dòng)FIB切割,、信號(hào)采集以及3維重構(gòu)技術(shù)（斷層掃描）,，實(shí)現(xiàn)3D EBSD、3D EBIC等集成可視化3維 (選配),；

u  FIB銑削或沉積時(shí)SEM同時(shí)成像（兩個(gè)獨(dú)立的掃描發(fā)生器）,；

u  刻蝕或沉積過(guò)程中FIB局部成像,；

u  強(qiáng)大的電子束寫(xiě)入工具，包含大量基本的和高級(jí)的,、可進(jìn)行各種工藝參數(shù)編輯的對(duì)象,；

u  成熟的SEM/FIB/GIS操作軟件用于圖片的獲取、存檔,、處理和分析,；多用戶多語(yǔ)言的操作界面,。