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常規(guī)砷化鎵
常規(guī)砷化鎵

參考價格

面議

型號

常規(guī)砷化鎵

品牌

晶沐光電

產(chǎn)地

江蘇

樣本

暫無
江陰晶沐光電新材料有限公司

高級會員

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第1年

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介紹砷化鎵(GaAs)是一種III-V族化合物半導體,具有直接能隙(1.43 eV),、高電子遷移率和優(yōu)異的高頻特性,。其高速、低噪聲和抗輻射性能使其成為微波射頻,、光電子和功率器件的重要材料,。

?

應用:砷廣泛用于射頻和微波器件,如5G通信芯片,、雷達系統(tǒng)和衛(wèi)星通信設備,。它還應用于光電子領域,如激光器,、光探測器和高效太陽能電池,,適用于高速光通信和航天應用,。

產(chǎn)品規(guī)格書


??

砷化鎵單晶襯底晶片(2~8inch )

直徑

50.8mm

76.2mm

100mm

150mm

200mm

厚度

350μm

350μm

350μm

675μm

675μm

表面晶向

(100) 15.0?± 1.0? off toward (111)

<100>±1.0°

主定位邊晶向

EJ<0-1-1>±1.0°

主定位邊長度

12mm

22mm

32mm

Notch

Notch

次定位邊晶向

EJ<0-1 1>±1.0°

N/A

N/A

次定位邊長度

7mm

12mm

18mm

N/A

N/A

正面狀態(tài)

Epi-polished

反面狀態(tài)

SSP:Etched; DSP:Epi-polished

總厚度偏差TTV

≤10μm

≤10μm

≤15μm

≤20μm

≤30μm

彎曲度BOW

≤12μm

≤15μm

≤20μm

≤25μm

≤40μm

翹曲度WARP

≤15μm

≤20μm

≤25μm

≤30μm

≤60μm

邊緣去除

≤3 mm

應用

LED應用

LD激光應用

半導體,微電子芯片

導電類型

N-Ttpe

N-Ttpe

Insulating

摻雜元素

Si-doping

Si-doping

Undoped

電阻率

(1~9)E-3ohm-cm

(1~9)E-3ohm-cm

>1E7ohm-cm

位錯密度(EPD)

<5000/cm2

<500/cm2

<5000/cm2

載流子濃度(CC)

(0.4~5)E18/cm3

(0.4~2.5)E18/cm3

N/A

電子遷移率(Mobility)

>1000cm2/v.s

>1500cm2/v.s

>4000cm2/v.s



?

產(chǎn)品性能表


砷化鎵單晶襯底晶片(2~8inch )

晶體結構

立方晶體

禁帶寬度(eV)

1.42eV

熔點(℃)

1238℃

莫氏硬度(mohs)

5.6

熱導率(W·cm-1·℃-1)

0.55W·cm-1·℃-1

熱膨脹系數(shù)(℃-1)

5.8×10-6

晶格常數(shù)(nm)

a=0.5652

電子遷移率(cm-2·V-1·s-1

8500

擊穿電場(MV·cm-1)

4

JFM指數(shù)(power)

11

BFM指數(shù)(SW)

28

BHFM指數(shù)(RF)

16

折射率

3.24~3.33


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10分

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10分

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10分

性價比

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