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IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨
IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨

參考價(jià)格

10-20萬元

型號(hào)

CMSD2000/ 04

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國

樣本

暫無
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

金牌會(huì)員

|

第14年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 磨拋盤直徑:

    55mm
  • 主軸轉(zhuǎn)速:

    14000
  • 切割片尺寸:

    55mm
  • 空氣耗量(L/min):

    2
  • 空氣壓力(kpa):

    10
  • 粉碎程度:

    超細(xì)粉碎
  • 單位能耗:

    --
  • 產(chǎn)量:

    100
  • 裝機(jī)功率(kw):

    4
  • 成品細(xì)度:

    鈉米級(jí)
  • 入料粒度(mm):

    10mm以下
  • 工作原理:

    自磨
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 IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高速研磨機(jī)/高速膠體磨改進(jìn)式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨


催化劑漿料制備關(guān)鍵點(diǎn):

穩(wěn)定均一:①減少尾端顆粒的數(shù)量②粒徑分布窄

分散性好:減少鉑炭催化劑大粒子的團(tuán)聚

 

在漿料生產(chǎn)過程中,,常見的問題包括:

1.提高催化劑活性

減小催化劑顆粒尺寸可以有效提升其活性,,但未分散的顆粒容易形成大團(tuán)聚物,導(dǎo)致顆粒尺寸增大,、比表面積減小,,從而降低催化活性。適當(dāng)?shù)姆稚⒂兄谔岣叽呋瘎┗钚?,進(jìn)而影響膜電極組件(MEA)的性能.

2.提高催化劑的穩(wěn)定性和均一性

燃料電池中使用的鉑炭催化劑要求鉑納米顆粒的粒徑在3-5納米之間,,粒徑分布窄,且在炭上均勻分散,,不含有害雜質(zhì)(如氯),。由于3-5納米鉑納米顆粒的表面能較大,容易發(fā)生團(tuán)聚,,因此制備出滿足這些條件的鉑碳催化劑工藝難度較高,,這也是目前主要依賴進(jìn)口的原因之一.

3.減少催化劑用量和提高利用率

催化劑層(CL)一直面臨著陰極氧還原反應(yīng)(ORR)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)緩慢以及質(zhì)量傳輸過電位過高的問題,其中一個(gè)主要原因是CL上催化劑團(tuán)聚體中離聚物對(duì)鉑(Pt)的覆蓋,。離聚物覆蓋在Pt表面會(huì)減少催化活性位點(diǎn),,導(dǎo)致ORR活性損失,而Pt表面高密度過厚的離聚物層則會(huì)導(dǎo)致質(zhì)量傳輸過電位增加,。這些問題都與CL上團(tuán)聚體的結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。均一分散的催化劑漿料可以與涂覆工藝相結(jié)合,,盡量使涂覆層更薄,,從而提高催化劑的利用率.

4.連續(xù)性生產(chǎn)(穩(wěn)定性)

分散的鉑炭催化劑會(huì)隨著時(shí)間推移發(fā)生再聚集,,因此分散好的漿料需要盡快進(jìn)行下一工序以形成催化基層。連續(xù)分散過程可以與催化劑漿料的涂布過程同步進(jìn)行,,允許在分散后立即使用催化劑漿料進(jìn)行連續(xù)生產(chǎn)催化劑層,。雖然在實(shí)際生產(chǎn)中,連續(xù)生產(chǎn)可以解決部分問題,,但體系穩(wěn)定的漿料可以顯著降低工藝難度,。


有很多應(yīng)用中,200-600目的顆粒度是不夠的,,需要達(dá)到1-2微米甚至更小,,常用的研磨設(shè)備以及研磨方式已經(jīng)難以滿足此技術(shù)要求。上海依肯在傳統(tǒng)膠體磨與均質(zhì)機(jī)的基礎(chǔ)上,,研發(fā)出了二者相結(jié)合的研磨分散機(jī),,其磨頭結(jié)構(gòu)采用錯(cuò)齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,,定轉(zhuǎn)子部分間隙理論上能夠?qū)崿F(xiàn)無限接近,,再配合15000RPM的超高轉(zhuǎn)速,當(dāng)顆粒進(jìn)入磨頭腔體之后,,瞬間即可被超微粉碎,。從磨頭腔體出來后進(jìn)入分散盤腔內(nèi),根據(jù)物料的特性及處理量的要求,,上海依肯提供2G,,4M,6F,,8SF不同規(guī)格的斜齒,,對(duì)磨細(xì)的顆粒進(jìn)行二次剪切和分散,防止顆粒抱團(tuán),。


IKN模塊化設(shè)計(jì)的主要特點(diǎn)如下:

-直立式腔體結(jié)構(gòu),,物料可以全部進(jìn)入分散腔;

-無死角,;

-良好的表面處理,;

-符合CIP/SIP的清洗要求;

-低噪音,;

-所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316,;

-小試、中試到量產(chǎn),,平穩(wěn)過渡,;

-僅需簡(jiǎn)單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求,;

-衛(wèi)生設(shè)計(jì),,適合食品及制藥行業(yè),;

-可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求。



研磨分散機(jī)參數(shù)選型表 

CMSD選型.png

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù),。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來電:本公司有樣機(jī)可供客戶購前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!


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結(jié)合錐形刀頭與平面刀頭 提高研磨與分散效果

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
暫無評(píng)論,!
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