參考價格
10-20萬元型號
CMSD2000/ 04品牌
IKN產(chǎn)地
德國樣本
暫無工作原理：
自磨磨拋盤直徑：
55mm主軸轉(zhuǎn)速：
14000切割片尺寸：
55mm空氣耗量（L/min）：
2空氣壓力（kpa）：
10粉碎程度：
超細(xì)粉碎單位能耗：
--產(chǎn)量：
100裝機(jī)功率（kw）：
4成品細(xì)度：
鈉米級入料粒度（mm）：
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IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高速研磨機(jī)/高速膠體磨改進(jìn)式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨
催化劑漿料制備關(guān)鍵點：
穩(wěn)定均一：①減少尾端顆粒的數(shù)量②粒徑分布窄
分散性好：減少鉑炭催化劑大粒子的團(tuán)聚
在漿料生產(chǎn)過程中,，常見的問題包括：
1.提高催化劑活性
減小催化劑顆粒尺寸可以有效提升其活性，但未分散的顆粒容易形成大團(tuán)聚物,，導(dǎo)致顆粒尺寸增大,、比表面積減小，從而降低催化活性,。適當(dāng)?shù)姆稚⒂兄谔岣叽呋瘎┗钚?，進(jìn)而影響膜電極組件（MEA）的性能.
2.提高催化劑的穩(wěn)定性和均一性
燃料電池中使用的鉑炭催化劑要求鉑納米顆粒的粒徑在3-5納米之間，粒徑分布窄,，且在炭上均勻分散,，不含有害雜質(zhì)（如氯）。由于3-5納米鉑納米顆粒的表面能較大,，容易發(fā)生團(tuán)聚,，因此制備出滿足這些條件的鉑碳催化劑工藝難度較高，這也是目前主要依賴進(jìn)口的原因之一.
3.減少催化劑用量和提高利用率
催化劑層（CL）一直面臨著陰極氧還原反應(yīng)（ORR）反應(yīng)動力學(xué)緩慢以及質(zhì)量傳輸過電位過高的問題，其中一個主要原因是CL上催化劑團(tuán)聚體中離聚物對鉑（Pt）的覆蓋,。離聚物覆蓋在Pt表面會減少催化活性位點,，導(dǎo)致ORR活性損失，而Pt表面高密度過厚的離聚物層則會導(dǎo)致質(zhì)量傳輸過電位增加,。這些問題都與CL上團(tuán)聚體的結(jié)構(gòu)密切相關(guān),。均一分散的催化劑漿料可以與涂覆工藝相結(jié)合，盡量使涂覆層更薄,，從而提高催化劑的利用率.
4.連續(xù)性生產(chǎn)（穩(wěn)定性）
分散的鉑炭催化劑會隨著時間推移發(fā)生再聚集,，因此分散好的漿料需要盡快進(jìn)行下一工序以形成催化基層。連續(xù)分散過程可以與催化劑漿料的涂布過程同步進(jìn)行,，允許在分散后立即使用催化劑漿料進(jìn)行連續(xù)生產(chǎn)催化劑層,。雖然在實際生產(chǎn)中，連續(xù)生產(chǎn)可以解決部分問題,，但體系穩(wěn)定的漿料可以顯著降低工藝難度,。
有很多應(yīng)用中，200-600目的顆粒度是不夠的,，需要達(dá)到1-2微米甚至更小,，常用的研磨設(shè)備以及研磨方式已經(jīng)難以滿足此技術(shù)要求。上海依肯在傳統(tǒng)膠體磨與均質(zhì)機(jī)的基礎(chǔ)上,，研發(fā)出了二者相結(jié)合的研磨分散機(jī),，其磨頭結(jié)構(gòu)采用錯齒形，自上而下齒槽深度由深到淺,，定轉(zhuǎn)子部分間隙理論上能夠?qū)崿F(xiàn)無限接近,，再配合15000RPM的超高轉(zhuǎn)速，當(dāng)顆粒進(jìn)入磨頭腔體之后,，瞬間即可被超微粉碎,。從磨頭腔體出來后進(jìn)入分散盤腔內(nèi)，根據(jù)物料的特性及處理量的要求,，上海依肯提供2G,，4M，6F,，8SF不同規(guī)格的斜齒,，對磨細(xì)的顆粒進(jìn)行二次剪切和分散，防止顆粒抱團(tuán),。
IKN模塊化設(shè)計的主要特點如下：
-直立式腔體結(jié)構(gòu),，物料可以全部進(jìn)入分散腔；
-無死角,；
-良好的表面處理,；
-符合CIP/SIP的清洗要求,；
-低噪音；
-所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316,；
-小試,、中試到量產(chǎn)，平穩(wěn)過渡,；
-僅需簡單的更換功能模塊，即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求,；
-衛(wèi)生設(shè)計,，適合食品及制藥行業(yè)；
-可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求,。
研磨分散機(jī)參數(shù)選型表
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù),。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
技術(shù)及價格請來電:本公司有樣機(jī)可供客戶購前實驗,，歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!
IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高速研磨機(jī)/高速膠體磨改進(jìn)式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨
結(jié)合錐形刀頭與平面刀頭 提高研磨與分散效果
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機(jī),，防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機(jī)，納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機(jī),，連續(xù)式納米二氧化硅分散機(jī),，在線式納米二氧化硅分散機(jī)，德國進(jìn)口分散機(jī),，在線式分散機(jī)IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復(fù)合物,，具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國柏林化學(xué)公司在上世紀(jì)七十年代開發(fā)上市,，在歐美等國家地區(qū)已使用三十多年,。自2001年我國衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑（Emulsion）是指互不相溶的兩相液體，其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑,。形成液滴的相稱為分散相,、內(nèi)相或非連續(xù)相，另一相液體則稱為分散介質(zhì),、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球（microspheres）是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質(zhì)中而形成的微小球狀實體,，其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
上海依肯產(chǎn)品冊 不同轉(zhuǎn)速分散機(jī)比較 依肯（IKN）機(jī)械 最新產(chǎn)品目錄 依肯（IKN）機(jī)械 最新產(chǎn)品目錄 依肯（IKN）機(jī)械不同轉(zhuǎn)速分散機(jī)的比較 IKN乳化頭定轉(zhuǎn)子技術(shù) 
《哪吒之魔童鬧海》（哪吒2）票房一路飆升,，成功突破120億大關(guān),，這成績堪稱“票房奇跡”！影片中金色與黑色勢力的激烈交鋒,，那高速對撞,、渦旋升騰沖擊出一片片血霧的震撼畫面,，是不是讓你印象深刻？小編看到這些
通常情況下,，工業(yè)化生產(chǎn)的過氧苯甲酰呈現(xiàn)為類似雪珠的顆粒,，直徑在0.01至0.5厘米之間；或者類似食鹽大小的顆粒,，直徑在60至150微米范圍內(nèi),。當(dāng)這類顆粒尺寸的過氧苯甲酰被用于凝膠或乳膏劑時，其粒徑大小
在藥品產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程中,，研發(fā)部門與生產(chǎn)部門的技術(shù)認(rèn)知差異,，往往導(dǎo)致從實驗室到車間的關(guān)鍵跨越成為"死亡之谷"。這種矛盾本質(zhì)上是兩種專業(yè)邏輯的沖突： ▌研發(fā)端的典型困境"
二氧化硅高含量漿料因其獨特的物理和化學(xué)性質(zhì),，如高穩(wěn)定性,、高硬度、高耐磨性和良好的化學(xué)惰性,，在多個行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用,。以下是一些主要的應(yīng)用行業(yè)：1.半導(dǎo)體和電子行業(yè)芯片制造：二氧化硅漿料用于半導(dǎo)體芯片
IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨的工作原理介紹？IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨的使用方法,？IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨多少錢一臺,？IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨使用的注意事項IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨的說明書有嗎？IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨的操作規(guī)程有嗎,？IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨的報價含票含運費嗎,？IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨有現(xiàn)貨嗎？IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨包安裝嗎,？
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