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IKN顏料高剪切分散機
IKN顏料高剪切分散機

參考價格

10-20萬元

型號

ERS 2000/ 04

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國

樣本

暫無
上海依肯機械設備有限公司

金牌會員

|

第14年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 調(diào)速范圍:

    0-14000 rpm
  • 分散輪直徑(mm):

    55
  • 全容積(m3):

    不限
  • 能耗:

    4 kW
  • 處理量:

    300-1000 L/H
  • 物料類型:

    液體,、固體、粉末,、粘稠液體,、漿料等
  • 工作原理:

    立式
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顏料乳化機/高效顏料分散機/顏料納米分散機/顏料高剪切分散機

 

顏料是用來給物質(zhì)著色的材料,,由能吸收或反射光的細小顆粒組成,,可分散在多種介質(zhì)中,如涂料,、塑料和紡織品,。分為有機和無機兩大類,,它們影響產(chǎn)品顏色及性能,應用廣泛,。

在顏料生產(chǎn)過程中,,分散工藝是至關(guān)重要的一步,因為它直接影響到顏料的均勻性和穩(wěn)定性,。顏料顆粒在分散過程中被均勻地分散在介質(zhì)中,,這樣可以確保顏料在*終產(chǎn)品中具有一致的顏色強度和光澤。如果顏料顆粒聚集或分布不均,,會導致顏色不均勻,,影響產(chǎn)品的外觀和性能。此外,,良好的分散工藝還能提高顏料的附著力和覆蓋力,,減少顏料的用量,從而降低成本,。因此,,顏料分散工藝對于確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能至關(guān)重要。

 

目前傳統(tǒng)的顏料研磨分散設備主要是高速分散機(攪拌機)和砂磨機,。

顏料的傳統(tǒng)分散工藝主要面臨以下問題:

批次式分散設備:混合分散時間長,,能量消耗大,容易出現(xiàn)死角,,維護成本高,,產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定。

砂磨機研磨設備:生產(chǎn)效率低,,分散時間過長,,耗時耗能,細度分布不均,,分離器堵塞,。


IKN設備在顏料研磨分散工藝中的應用

粉液混合設備

PLD粉液混合機可對顏料等其他粉體進行在線潤濕,避免粉體飛揚及發(fā)生團聚,??纱鏀嚢柙O備及高速分散設備,縮短攪拌時間,,節(jié)約能量,。

PLD分散混合機的喂料可以通過在機器入口處安裝的漏斗來進行。粉體喂料時可以完全手動,,也可以選擇半自動或全自動操作,,同時您也可以選擇輸送機、氣動裝貨設備或是其他的傳輸設備,。 粉體可以直接從包裝袋中吸取,,也可以通過一根管子被吸入機器,。PLD分散混合機盡量減少粉體的與人直接接觸,避免周圍環(huán)境的污染,,而且它減少了對人力的要求,,使得喂料變得簡單易行。

粉液分散混合機-1.jpg

膠體磨(錐體磨)

CM2000膠體磨及CMO2000膠體磨非同于介質(zhì)研磨設備,,該設備有研磨細度小,、研磨效率高等特點。特別指出的是錐體磨在研磨一些片狀顆粒時效果尤為顯著,。

膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定,、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力,、摩擦力、高頻振動等物理作用,,使物料被有效地乳化,、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果,。

CM2000膠體磨.jpg

高剪切分散機

ER2000高剪切分散機擁有超高剪切速率,,依靠強烈的機械及液力剪切、離心擠壓,、液層摩擦,、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,可將顏料的團聚物,、絮凝物徹底打散分開,,形成穩(wěn)定的體系。需要指出的是高剪切分散機在對球狀顆粒分散時效果特別顯著,。

ER2000管線式高剪切乳化機.jpg

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高效 高速分散

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

性價比

10分
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