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CVD石墨烯生長爐
CVD石墨烯生長爐

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

CVD石墨烯生長爐

品牌

鄭州恒通

產(chǎn)地

河南

樣本

暫無
鄭州恒通爐業(yè)有限公司

高級會(huì)員

|

第1年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 非金屬電熱元件:

    其他
  • 金屬電熱元件:

    其他
  • 燒結(jié)氣氛:

    其他
  • 溫控精度:

    ±1℃
  • 最高溫度:

    1200℃
  • 額定溫度:

    -
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CVD石墨烯生長爐專門針對于用在金屬箔上生長薄膜物質(zhì),如石墨烯,、使用時(shí)把金屬箔附在內(nèi)管上。其**工作溫度可以達(dá)到1200℃,,專門針對于用CVD化學(xué)氣相沉積方法在金屬箔上生長薄膜物質(zhì),,如石墨烯、太陽能電池的電極材料和電池電極材料等,。

 

石墨烯生長爐由HTTF1200真空管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成 ,,**溫度可以達(dá)到1200,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū),、三溫區(qū)等,,極限真空可以達(dá)到10-3Pa,供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計(jì)或浮子流量計(jì),,混氣路數(shù)可以是2路,、3路、4路,、5路相混合,。

 

石墨烯生長爐是一種特殊的CVD系統(tǒng)(化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)),是專門為在金屬箔(像銅箔、鋁箔等)上生長薄膜而設(shè)計(jì),,廣泛應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究上,,特別適用于碳納米管、碳納米線,、石墨烯的生長,。

 

HTTF-1200真空管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和宇電控溫儀表,,能進(jìn)行30段程序控溫,,移相觸發(fā)、可控硅控制,,爐膛采用日本進(jìn)口氧化鋁多晶纖維材料,,具有溫場均衡、表面溫度低,、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn),。

真空管式爐軟件控制系統(tǒng):該爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過電腦控制爐子的各個(gè)參數(shù),,并能從電腦上觀察到爐子上PVSV溫度值和儀表的運(yùn)行情況,,爐子的實(shí)際升溫曲線電腦會(huì)實(shí)時(shí)繪出,并能把每個(gè)時(shí)刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來,,隨時(shí)可以調(diào)出,。

 

產(chǎn)品名稱

石墨烯生長爐(納米管生長爐)

產(chǎn)品型號(hào)

HTTF-1200-CVD

管式爐

加熱區(qū)長度

440mm

恒溫區(qū)長度

150 (+/-1 )

工作溫度

1100℃(此溫度為長期加熱溫度)

**溫度

1200

爐管尺寸

Φ60×1440mm

等離子射頻電源

輸出功率

500W    ± 1% . 

射頻頻率

13.56 MHz    ±0.005% .

反射功率

**約200W 

阻抗匹配

自動(dòng)

真空泵機(jī)組(雙極旋片泵)

真空度

10-3torr

波紋管

KFD25 快接,不銹鋼波紋管,,手動(dòng)擋板閥與法蘭,,真空泵相連.

質(zhì)量流量計(jì)

四通道控制

精度0.02% 、數(shù)字顯示,、自動(dòng)控制,、 一個(gè)混氣罐、底部裝有泄廢液口

MFC 1范圍

0~100 sccm 

MFC 23

0~500 sccm  

進(jìn)氣接口

1/4NPS

出氣接口

1/4NPS

水冷系統(tǒng)

水冷法蘭要求

水流量 >= 10L/M ,,配有專業(yè)水冷機(jī)組

 

石墨烯生長爐標(biāo)準(zhǔn)配件:

質(zhì)子混氣系統(tǒng)1臺(tái),、雙旋機(jī)械泵1臺(tái)、水冷系統(tǒng)1臺(tái),、K型熱電偶1支,、氣煉石英爐管1根、不銹鋼法蘭1套,、不銹鋼爐鉤1,、剛玉爐塞2對、高溫手套1副,、剛玉坩堝2個(gè),、說明書1.


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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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