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顯微PL光譜測量系統
顯微PL光譜測量系統

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型號

顯微PL光譜測量系統

品牌

上海良允

產地

上海

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上海良允科學儀器有限公司

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光致發(fā)光(photoluminescence)即PL,是用紫外,、可見或紅外輻射激發(fā)發(fā)光材料而產生的發(fā)光,,

在半導體材料的發(fā)光特性測量應用中通常是用激光(波長如325nm、532nm,、785nm等)

激發(fā)材料(如GaN,、ZnO、GaAs等)產生熒光,,通過對其熒光光譜(即PL譜)的測量,,

分析該材料的光學特性,如禁帶寬度等,。光致發(fā)光可以提供有關材料的結構、

成分及環(huán)境原子排列的信息,,是一種非破壞性的,、高靈敏度的分析方法,

因而在物理學,、材料科學,、化學及分子生物學等相關領域被廣泛應用。

傳統的熒光光譜儀一般采用透鏡收光的方式,,針對發(fā)光非常微弱的納米材料,,

即便用激光器激發(fā),也很難獲得較好的信號,。結合多年的實際測樣經驗,,

良允科儀推出了顯微PL系統,采用顯微物鏡收光,,

較傳統的熒光光譜儀其收光效率提升了至少3個數量級,,

因此特別適用于傳統熒光系統難以檢測到的微弱信號,

另外其輔助的白光成像功能,,還可以實現微區(qū)(微米級)定位測量,。 

應用領域:

·  半導體材料

·  納米材料

·  薄膜材料

·  光波導器件

·  LD, LED外延片


產品特點:

·  光譜范圍:200-1700nm

·  光斑大小:≤10μm(325nm激光,、100X物鏡)

·  光譜分辨率:優(yōu)于0.1nm

·  白光成像分辨率:亞微米級

·  激光器:266nm,、325nm、360nm,、405nm,、488nm,、510nm、532nm,、633nm,、

785nm等可選

·  樣品臺:手動/電動可選

·  采譜模式:單點掃描/線掃描可選


系統功能:

·  微區(qū)PL測量

·  可同時配置多路激光器

·  自由光路耦合,保障高的通光效率

·  顯微光路設計,,保障高的激發(fā),、收集效率

·  高精度位移臺,實現微米級定位測量


擴展功能:

·  微區(qū)電致發(fā)光(EL)測量

·  熒光壽命測量:ps-ms量級

·  自動Mapping功能:50mm×50mm行程,,步進精度1μm

·  光電流譜(成像)測量

·  光電材料響應度測試

·  變溫附件:77K-600℃/4K,、10K超低溫


實測案例:

樣品(粉末):8%Ag2S/SnS2-ND

激發(fā)光源:405nm激光器,積分時間:0.5s,;


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