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大型電子束箱式真空鍍膜設備

以您的鍍膜工藝出發(fā),，理論計算和設計經(jīng)驗結(jié)合，合理的配置,，合理的布局,，超高的性價比。全自動一鍵式操作。既能滿足科研院所多品種,、小批量產(chǎn)品研制的需求,，又能適用于規(guī)模化生產(chǎn),。全無油真空系統(tǒng),。

◆ 適用行業(yè)：天文觀測、SiC改性及傳統(tǒng)光學鍍膜,、紅外器件鍍膜等

◆ 適用膜料金屬類：金,、銀、鋁,、銅,、鈦、鉻,、鈀,、銠、鉑,、鎳等各類金屬或合金

◆ 介質(zhì)類：二氧化硅,、三氧化二鋁、二氧化鈦,、五氧化二鉭,、氧化鉿、二 氧化鋯,、氟化鎂,、氟化釔、硫化鋅,、硒化鋅,、H4、SV-7,、SV-20等

◆ 晶體類：鍺,、硅等膜層厚度       ◆ 金屬類：5nm-40mm

◆ 介質(zhì)類：5nm-30mm              ◆  晶體類：10nm-30mm

◆ 基底（襯底）尺寸： φ1.5mm-φ2400mm

主要技術指標：

◆ 內(nèi)腔直徑（mm）：2800、3000,、3600等,；

◆ 使用整體平面工件盤時：工件直徑不超過φ2400mm，邊緣厚度不超過400mm,，工件及夾具總重量不超過10噸,，工件轉(zhuǎn)速3-10rpm/min；

◆ 使用三行星平面工件盤時：工件直徑不超過φ1100mm,，邊緣厚度不超過250mm,，工件及夾具總重量不超過1噸,，工件轉(zhuǎn)速3-30rpm/min；

◆ 極限真空：≤8×10-5 Pa（24 小時內(nèi)）,；

◆ 常溫狀態(tài)下,，真空室排氣由大氣至壓強2×10-3Pa，排氣時間≤25min,；

◆ 250℃烘烤狀態(tài)下，真空室排氣由大氣至壓強2×10-3Pa,，排氣時間≤45min;

◆ 下烘烤,，**溫度300℃，控溫精度≤±1℃,；

◆ 烘烤至200℃時,，溫度不均勻性≤±5℃（徑向5點測試）

◆ 漏氣率：≤1.0×10-4Pa?m3/s;

◆ 膜厚片內(nèi)均勻性：≤±2%（電子束蒸發(fā)源制備Al2O3、SiO2兩種單層薄膜,，延半徑方向均分十點測試）,；

◆ 膜厚片間均勻性： ≤±2%（批次內(nèi)5片，每片取平均值）

◆ 膜厚批間重復性：≤±2% （連續(xù)3批,，每批次取平均值） ,；

控制程序：

◆ 19U標準機柜，專用控制臺操作,；

◆ 基于微軟WPF開發(fā)的全自動一鍵式操作程序,，保證鍍膜重復性；

◆ 采用excel文件編輯工藝參數(shù),，軟件直接調(diào)用運行即可完成整個鍍膜工藝流程,，無需額外操作；

◆ 軟件自動生成詳細的工藝過程運行記錄和鍍膜信息記錄,；

◆ 記錄文件可回溯,，歷史數(shù)據(jù)曲線可查看，時間期限為1年內(nèi),；

◆ 可將TFC和Macload軟件設計參與導入到工藝流程內(nèi),；

◆ 膜層狀態(tài)界面可查看厚度、時間,、速率,、功率等鍍膜信息；

◆ 關鍵部件根據(jù)實際使用情況,，有維護時間顯示,，即節(jié)約成本，又便于維護,；

◆ 完備的互鎖功能,，防止誤操作,；

◆ 程序設有三級權(quán)限，便于管理及維護,。