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產(chǎn)品詳情

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機（高真空鍍膜機）采用電阻熱蒸發(fā)技術(shù),，它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法,，在襯底上沉積各種化合物,、混合物單層或多層膜?？捎糜谏a(chǎn)和科學(xué)實驗,，可根據(jù)用戶要求專門訂制；可用于材料的物理和化學(xué)研究,；可用于制備金屬導(dǎo)電電極,；可用于有機材料的物理化學(xué)性能研究實驗、有機半導(dǎo)體器件的原理研究實驗,、OLED實驗研究及有機太陽能薄膜電池研究實驗等,。

設(shè)備構(gòu)成

-單鍍膜室

-單鍍膜室＋進樣室

-單鍍膜室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內(nèi)）

-單鍍膜室＋進樣室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內(nèi)）

-多鍍膜室＋樣品傳遞室＋手套箱（組成團簇式結(jié)構(gòu),，樣品傳遞采用真空機械手）

設(shè)備組成

電阻熱蒸發(fā)源組件、樣品掩膜擋板系統(tǒng),、真空獲得系統(tǒng)及真空測量系統(tǒng),、分子泵（或冷泵）真空機組、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺,、工作氣路,、手套箱連接部件、樣品傳遞機構(gòu),，膜厚控制系統(tǒng),、電控系統(tǒng)、恒溫冷卻水系統(tǒng)等組成,。

熱蒸發(fā)源類型和數(shù)量,，可根據(jù)用戶需要進行配置,。

可選件：膜厚監(jiān)控儀,，恒溫制冷水箱。

熱蒸發(fā)源種類及配置

電阻熱蒸發(fā)源組件：數(shù)量：1～12套（可根據(jù)用戶要求配裝）,；

電阻熱蒸發(fā)源種類：鉭（鎢或鉬）金屬舟熱蒸發(fā)源組件,、石英舟熱蒸發(fā)源組件、鎢極或鎢藍熱蒸發(fā)源組件,、鉭爐熱蒸發(fā)源組件（配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝）,、束源爐熱蒸發(fā)組件（配石英坩堝或氮化硼坩堝）。

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機（高真空鍍膜機） 工作條件（實驗室應(yīng)具備的設(shè)備工作條件）

供電：4kW,，三相五線制～ AC 380V

工作環(huán)境濕度：10℃～ 40℃

工作環(huán)境溫度：≤50%

冷卻循環(huán)水：0.2m³/h,，水溫18℃～ 25℃

水壓：0.15MPa ～ 0.25MPa

真空性能

極限真空：7×10^-5Pa～7×10^-6Pa

設(shè)備總體漏放率：關(guān)機12小時，≤10Pa

操作方式

手動,、半自動