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化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)壓力盤(pán)獨(dú)立驅(qū)動(dòng)型(IDP型)品牌
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CF系列化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)_壓力盤(pán)獨(dú)立驅(qū)動(dòng)型(IDP型)玉力盤(pán)獨(dú)立驅(qū)動(dòng)型CP系列化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)每一個(gè)壓力盤(pán)都由單獨(dú)的一個(gè)伺服減速電機(jī)驅(qū)動(dòng),，不同于中心導(dǎo)輪驅(qū)動(dòng)型CP設(shè)備通過(guò)摩擦力助力驅(qū)動(dòng)的方式,，壓力盤(pán)獨(dú)立驅(qū)動(dòng)型CP設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力盤(pán)轉(zhuǎn)速控制，同時(shí),，由于拋光區(qū)域內(nèi)避免了摩擦接觸的結(jié)構(gòu),，減少了拋光液結(jié)晶顆粒的產(chǎn)生，從而減少了晶片的表面顆粒污染及劃傷的幾率;壓力盤(pán)獨(dú)立驅(qū)動(dòng)型拋光機(jī)每個(gè)壓力盤(pán)的轉(zhuǎn)速都可以分別設(shè)定,，根據(jù)每個(gè)壓力盤(pán)加壓氣缸的特性,，通過(guò)對(duì)壓力盤(pán)轉(zhuǎn)速的細(xì)微調(diào)節(jié)可以實(shí)現(xiàn)不同壓力盤(pán)之間幾乎零差異的加工結(jié)果。
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