制作方法:
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電子式:NH4OH
CASNo:1336-21-6
用途:超純氨水主要應用于半導體芯片生產的工藝間清洗,去除晶圓芯片表面的水跡,,油污和無機物塵埃等,,是芯片加工中必不可少的材料。
說明:我司所生產的電子級氨水主含量(28.5-29.5)%,,單個雜質金屬離子含量≤10ppt,,硫酸根≤20ppb,磷酸根≤10ppb,,顆粒(≥0.1μm)≤25個/ml,。
產品優(yōu)勢:由于在超凈高純電子級氨水的精餾純化過程中,,氣體中夾雜的霧滴會污染*終產品,導致產品無法達到半導體企業(yè)所需要的10ppt 級別水平,。于是我司研制了超純的PTFE絲網除霧器替代傳統(tǒng)材質的絲網除霧器,,解決了液氨氣化過程中霧滴不易去除的難題,滿足氨氣純化需求,,保證了半導體企業(yè)所需的純度要求,。
包裝:200公斤壓力容器,1000公斤IBC桶,20噸TANK罐
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