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超凈高純電子級氫氟酸品牌
多氟多產(chǎn)地
河南樣本
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電子式：HF
CASNo：7664-39-3
用途：半導體、太陽能電池制造方面的硅晶片濕法蝕刻以及清洗，液晶屏等fpd制造工序,，水晶振蕩器（石英振蕩器）的制造工序,。
說明：半導體、FPD制造流程越發(fā)要求精細化,、高性能化,，半導體硅電路板的清洗在各種加工工序中變得非常重要。氫氟酸具有蝕刻,、除去硅氧化膜的特質(zhì),，因此在半導體硅電路板的清洗流程中也是不可或缺的精細加工技術(shù)。由于現(xiàn)在的多段清洗工序中需要用到稀氫氟酸進行*終清洗,，半導體的濕蝕刻工序?qū)浞嵋惨蠛芨叩臐崈舳?。清洗對氫氟酸潔凈度要求極高的設(shè)備構(gòu)件也需要用到超高純度的氫氟酸。
另外,，半導體,、FPD制造工序，超高純度藥劑不僅能去除氧化膜,，而且能在抑制粒子附著,、晶片表面的粗糙度等，達到各種對清洗性,、功能性的要求,。為此，我公司一直致力于對各種超高純度電子化學品進行研發(fā)及銷售,。
包裝：加侖瓶,，20公斤、25公斤聚乙烯桶,，200公斤壓力容器,，
1000公斤IBC桶，20噸TANK罐,。
暫無數(shù)據(jù),！
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