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CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平
CHI400C系列時(shí)間分辨電化學(xué)石英晶體微天平(EQCM)是CH Instruments與武漢大學(xué)合作的產(chǎn)品(武漢大學(xué)**),。石英晶體微天平(QCM)可進(jìn)行極靈敏的質(zhì)量測(cè)量,。在適當(dāng)?shù)臈l件下，石英晶體上沉積的質(zhì)量變化和振動(dòng)頻率移動(dòng)之間關(guān)系呈簡單的線性關(guān)系(Sauerbrey公式)：
Df = -2fo2 Dm / [A · sqrt(mr)]
式中是fo晶體的基本諧振頻率,，A是鍍?cè)诰w上金盤的面積,，r是晶體的密度(=2.684g/cm3)，m是晶體切變系數(shù)(= 2.947′1011 g/cm·s2)。對(duì)于我們的晶體(fo = 7.995MHz,， A = 0.196 cm2),，每赫茲的頻率改變相當(dāng)于1.34 ng。QCM和EQCM被廣泛應(yīng)用于金屬沉積,，高分子膜中離子傳遞,，生物傳感器，以及吸附解吸動(dòng)力學(xué)的研究等等,。
CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平含石英晶體振蕩器,，頻率計(jì)數(shù)器，快速數(shù)字信號(hào)發(fā)生器,，高分辨高速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),，電位電流信號(hào)濾波器，信號(hào)增益,，iR降補(bǔ)償電路,，以及恒電位儀／恒電流儀（440C）。電位范圍為±10V,，電流范圍為±250mA,。電流測(cè)量下限低于50pA。石英晶體微天平和恒電位儀/恒電流儀集成使得EQCM測(cè)量變得十分簡單方便,。CHI400C系列采用時(shí)間分辨的方式測(cè)量頻率的改變,。傳統(tǒng)的方法是采用頻率直接計(jì)數(shù)的方法，要得到1Hz的QCM分辨率,，需要1秒的采樣時(shí)間,。要得到0.1Hz的QCM分辨率，需要10秒的采樣時(shí)間,。我們是將QCM的頻率和一標(biāo)準(zhǔn)頻率的差值作周期測(cè)量,，從而大大縮短了采樣時(shí)間，提高了時(shí)間分辨,。我們可在毫秒級(jí)的時(shí)間里得到1Hz或0.1Hz或更好的頻率分辨,。當(dāng)和循環(huán)伏安法結(jié)合時(shí)，可允許在0.5V/s的掃描速度下獲得QCM的信號(hào),。這對(duì)需要較快速的測(cè)量(例如動(dòng)力學(xué)測(cè)量)尤為重要,。允許與QCM結(jié)合的電化學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)包括CV，LSV,，CA,，i-t，CP,。
400C系列在測(cè)量QCM頻率變化的同時(shí),，還能測(cè)量晶體諧振網(wǎng)絡(luò)的電阻變化,。
400C系列也是相當(dāng)快速的儀器。信號(hào)發(fā)生器的更新速率為10MHz,，數(shù)據(jù)采集速率為1MHz,。循環(huán)伏安法的掃描速度為1000V/s時(shí)，電位增量僅0.1mV,。又如交流伏安法的頻率可達(dá)10KHz,。儀器可工作于二，三,，或四電極的方式,。四電極對(duì)于大電流或低阻抗電解池（例如電池）十分重要，可消除由于電纜和接觸電阻引起的測(cè)量誤差,。由于儀器集成了多種常用的電化學(xué)測(cè)量技術(shù),，使得儀器可用作通用電化學(xué)測(cè)量，也可單獨(dú)用作石英晶體微天平的測(cè)量(不同時(shí)進(jìn)行電化學(xué)測(cè)量),。
CHI400C系列EQCM還包括一個(gè)特殊設(shè)計(jì)的電解池,，如圖1(a)所示。電解池由三塊圓形的聚四氟乙烯組成,。直徑為35mm,，總高度為37mm。*上面的是蓋子,，用于安裝參比電極和對(duì)極,。中間的是用于放溶液的池體。石英晶體被固定于中間和底下的部件之間,，通過橡膠圈密封,，并用螺絲固定,。石英晶體的直徑為13.7mm,，晶體兩面的中間鍍有5.1mm直徑的金盤電極(其它電極材料需特殊定做)。新晶體的諧振頻率是7.995 MHz,。
硬件參數(shù)指標(biāo)
恒電位儀 恒電流儀 (Model440C) 電位范圍: -10to10V 電位上升時(shí)間: <2微秒 槽壓: ±12V 三電極或四電極設(shè)置 電流范圍: 250mA 參比電極輸入阻抗: 1′1012歐姆 靈敏度: 1′ 輸入偏置電流: <50pA 電流測(cè)量分辨率: <1pA CV的*小電位增量: 0.1mV 電位更新速率: 10MHz 數(shù)據(jù)采集: 16位分辨@1MHz 自動(dòng)及手動(dòng)iR降補(bǔ)償 | CV和LSV掃描速度: 0.000001-5000V/s 電位掃描時(shí)電位增量: 0.1mV@1000V/s CA和CC脈沖寬度: 0.0001-1000sec CA和CC階躍次數(shù): 320 DPV和NPV脈沖寬度: 0.0001-10sec SWV頻率: 0.1-100kHz ACV頻率: 0.1-10kHz SHACV頻率: 0.1-5kHz 自動(dòng)電位和電流零位調(diào)整 電流測(cè)量低通濾波器,，自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置，覆蓋八個(gè)數(shù)量級(jí)的頻率范圍 旋轉(zhuǎn)電極控制輸出: 0-10V(430C以上型號(hào)) 電解池控制輸出: 通氮,，攪拌,，敲擊 **數(shù)據(jù)長度: 256K-1，384K點(diǎn)可選 儀器尺寸: 37cm (寬) x 23cm (深) x 12cm (高) 儀器重量: 3.3kg |
CHI400C系列儀器不同型號(hào)的比較
功能 | 400C | 410C | 420C | 430C | 440C |
循環(huán)伏安法（CV） | l | l | l | l | l |
線性掃描伏安法（LSV）# | l | l | l | l | l |
階梯波伏安法（SCV）# | l | l | |||
Tafel圖（TAFEL） | l | l | |||
計(jì)時(shí)電流法（CA） | l | l | l | l | |
計(jì)時(shí)電量法（CC） | l | l | l | l | |
差分脈沖伏安法（DPV）# | l | l | l | l | |
常規(guī)脈沖伏安法（NPV）# | l | l | l | l | |
差分常規(guī)脈沖伏安法（DNPV）# | l | ||||
方波伏安法（SWV）# | l | l | l | ||
交流（含相敏）伏安法（ACV）# | l | l | |||
二次諧波交流（相敏）伏安法（SHACV）# | l | l | |||
電流-時(shí)間曲線（i-t） | l | l | |||
差分脈沖電流檢測(cè)（DPA） | l | ||||
雙差分脈沖電流檢測(cè)（DDPA） | l | ||||
三脈沖電流檢測(cè)（TPA） | l | ||||
控制電位電解庫侖法（BE） | l | l | l | l | |
流體力學(xué)調(diào)制伏安法（HMV） | l | ||||
掃描-階躍混合方法（SSF） | l | ||||
多電位階躍方法（STEP） | l | ||||
計(jì)時(shí)電位法（CP） | l | ||||
電流掃描計(jì)時(shí)電位法（CPCR） | l | ||||
多電流階躍（ISTEP） | l | ||||
電位溶出分析（PSA） | l | ||||
開路電壓-時(shí)間曲線（OCPT） | l | l | l | l | l |
恒電流儀 | l | ||||
RDE控制（0-10V輸出） | l | l | |||
任意反應(yīng)機(jī)理CV模擬器 | l | l | |||
預(yù)設(shè)反應(yīng)機(jī)理CV模擬器 | l | l | l | ||
注：#：包括相應(yīng)的極譜法和溶出伏安法．用于極譜法時(shí)需要特殊的靜汞電極或敲擊器．
*：價(jià)格不包括計(jì)算機(jī)．儀器的保修期為一年．
暫無數(shù)據(jù),！
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