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HMDS真空烘箱,,HMDS涂膠烤箱,HMDS真空鍍膜機(jī)
HMDS預(yù)處理烘箱
一,、預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),而涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝顯得更為必要,,尤其在所刻線條比較細(xì)的時候,任何一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)一點紕漏,,都可能導(dǎo)致光刻的失敗,。在涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,,如果在晶片表面直接涂膠的話,,會造成光刻膠和晶片的黏合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡,,涂膠厚度和均勻性都受到影響,,進(jìn)而會影響了光刻效果和顯影,,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和晶片的連接處,,容易造成漂條,、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,,所以涂膠工藝中引入一種化學(xué)制劑HMDS(六甲基二硅氮甲烷,英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善這種狀況,。將HMDS涂到晶片表面后,,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,是一種表面活性劑,,它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用,。
二,、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與性能
2.1產(chǎn)品結(jié)構(gòu):
1.設(shè)備外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板表面靜電噴塑,內(nèi)膽316L不銹鋼材料制成,;無縫不銹鋼加熱管,,均勻分布在內(nèi)膽外壁,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置,;鋼化,、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實驗情況,。
2.箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)保持高真空度,。
3.溫度微電腦PID控制,,系統(tǒng)具有自動控溫、定時,、超溫報警等,,LCD液晶顯示,觸摸式按鍵,,控溫準(zhǔn)確可靠,。
4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度,、真空度及每一程序時間,。
5.HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,使真空箱密封性能極好,,確保HMDS氣體無外漏顧慮,。
6.無發(fā)塵材料,,適用百級光刻間凈化環(huán)境使用。
2.2產(chǎn)品性能:
1.由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮氣置換再進(jìn)行的HMDS處理,,所以不會有塵埃的干擾,,系統(tǒng)是將去水烘烤和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進(jìn)行,,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤,,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出而接觸到大氣,,晶片吸收水分子的機(jī)會大大降低,,所以有著更好的處理效果。
2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性,。
3.液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片,,效率高,。
4.用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多,經(jīng)實踐證明,,更加節(jié)省藥液,。
5. HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會出現(xiàn)反胃,、嘔吐,、腹痛、刺激胸部,、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的,,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),,所以也不會對環(huán)境造成污染,,更加環(huán)保和安全。
三,、技術(shù)參數(shù):
規(guī)格型號 | PVD-090-HMDS | PVD-210-HMDS |
容積(L) | 90L | 210L |
控溫范圍 | RT+10~250℃ | |
溫度分辨率 | 0.1℃ | |
控溫精度 | ±0.5℃ | |
加熱方式 | 內(nèi)腔體外側(cè)加溫 | |
隔板數(shù)量 | 2PCS | 3PCS |
真空度 | <133Pa(真空度范圍100~100000pa) | |
真空泵 | 抽氣速度4升/秒,,型號DM4 | |
電源/功率 | AC220/50Hz,3KW | AC380V/50Hz,,4KW |
內(nèi)膽尺寸W*D*H(mm) | 450*450*450 | 560*640*600 |
外形尺寸W*D*H(mm) | 650*640*1250 | 1220*930*1755 |
連接管:316不銹鋼波紋管,,將真空泵與真空箱完全密封無縫連接
備注:選配溫度壓力記錄儀時,因工藝需要改變設(shè)備整個外箱結(jié)構(gòu),,請參考實物圖,。外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板粉末靜電噴涂,,內(nèi)膽采用316L不銹鋼,外箱尺寸為(W*D*H)mm:980x655x1600(含下箱柜高700),,下箱柜空置,。適用于增加各類選配功能。
四,、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的原理:
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度,、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片,、基片表面均勻涂布一層HMDS,,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,,提高光刻膠與硅片的黏附性,。
五、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程:
首先確定烘箱工作溫度,。典型的預(yù)處理程序為:打開真空泵抽真空,,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,開始充入氮氣,,充到某低真空度后,,再次進(jìn)行抽真空、充入氮氣的過程,,到達(dá)設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,,減少硅片表面的水分,。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,,在到達(dá)設(shè)定時間后,,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,,使硅片充分與HMDS反應(yīng),。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空,。充入氮氣,,完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:首先加熱到100℃-200℃,,去除硅片表面的水分,,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,,從而使極性表面變成非極性表面,。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。
開箱溫度可以由user自行設(shè)定來降低process時間,,正常工藝在50分鐘-90分鐘(按產(chǎn)品所需而定烘烤時間),,為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規(guī)降溫))。
六,、尾氣排放:
多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,,排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理,。
七,、產(chǎn)品操作控制系統(tǒng)配置:
1. 標(biāo)配DM4直聯(lián)旋片式真空泵(外置);需要使用干泵可選愛德華或安捷倫(選購)
2. LCD液晶顯示溫度控制器,,PLC觸摸屏操作模塊
3. 固態(tài)繼電器,;加急停裝置
其它選配:
1.波紋管2米或3米(標(biāo)配是1米)
2.富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動)
3.三色燈 4.增加HMDS藥液瓶
5.低液位報警(帶聲光報警)
6.HMDS管路加熱功能
7.開門報警
8.壓力溫度記錄儀
暫無數(shù)據(jù)!