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GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)裝置
GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)裝置

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浙江

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杭州庚雨儀器有限公司

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GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)裝置簡介:

能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,,工作范圍寬廣,用于制藥,、化工,、生物等行業(yè),為反應(yīng)釜,、槽等提供熱源和冷源,,也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

●分3個系統(tǒng):制冷系統(tǒng),、加熱系統(tǒng)、預(yù)冷系統(tǒng),,三個系統(tǒng)可連續(xù)使用,,也可分別單獨使用。

●快速加熱和冷卻,,可連續(xù)升降溫,。

●溫度控制范圍寬,全程不需要換導(dǎo)熱介質(zhì),,導(dǎo)熱介質(zhì)消耗少,。

●全封閉循環(huán)系統(tǒng),高溫時導(dǎo)熱流體不易揮發(fā)和氧化,,低溫下不易吸入空氣中水分,,可延長導(dǎo)熱流體的使用壽命。

●高溫冷卻,、制冷功能,,可以從高溫直接降溫(如可從200℃直接降溫)。

●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器,,占用空間小,,換熱效率高。

●液位顯示功能,,隨時監(jiān)控液位,,避免缺液。

●高溫切斷,、急停,、延時、漏電,、過流電,、過熱等多重保護(hù)功能,充分保證使用安全,。

●冷凝,、預(yù)熱方式為風(fēng)冷,,節(jié)約水資源。

GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)裝置典型應(yīng)用:

●化工,、制藥或生物領(lǐng)域雙層反應(yīng)釜的溫度控制,。

●攪拌罐的溫度控制。

●高壓反應(yīng)釜的溫度控制,。

●材料測試中的應(yīng)用,。

●微反應(yīng)器技術(shù)領(lǐng)域的放大工藝過程的溫度控制。

●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制,。

●工藝過程中的溫度變化模擬控制,。

●大型恒溫控制系統(tǒng)。

●小型恒溫控制系統(tǒng),。

●半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制,。

●汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。

●真空室的溫度控制,。

GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)裝置技術(shù)參數(shù):

型號

GDZT-50-80-200G

儲液槽容積(L)

10

空載*低溫度()

-80

使用溫度范圍()

-80~200

**環(huán)境溫度()

≤25

環(huán)境相對濕度()

≤60

電源

380V±10% 50Hz

溫度

控制

顯示方式

數(shù)字式

控溫精度()

±1

安全保護(hù)

延時,、過電流、過熱

不同制冷溫度的制冷量(W)

200

6600

10

8200

-10℃

6200

-20℃

4500

-40℃

3400

-60℃

3120

-80℃

1030

制冷

機(jī)組

功率(W)

14820

**運(yùn)行電流(A)

39

制冷劑

R404A/R23

加熱功率

6000W

循環(huán)泵功率(W)

280

循環(huán)泵流量(L/min)

30

循環(huán)泵揚(yáng)程(m)

12

循環(huán)接口

絲口連接:1/2吋,,不銹鋼閥門

儲液槽

1Cr18Ni9Ti

整機(jī)尺寸(mm)

720×573×1280

整機(jī)重量(kg)

320

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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