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大方科技固定污染源氨逃逸連續(xù)在線監(jiān)測系統(tǒng)
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固定污染源氨逃逸在線分析系統(tǒng)

針對固定污染源氨逃逸在線監(jiān)測的技術要求,本產(chǎn)品結合大方科技在脫硝氨逃逸在線監(jiān)測的豐富經(jīng)驗,,研制開發(fā)環(huán)保型氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng),,專用于固定污染源氨逃逸的實時在線監(jiān)測,并將數(shù)據(jù)實時傳送至DCS,。設備改變傳統(tǒng)分體方式,,采用一體化設計,,占用空間小,安裝維護方便,,測量精度高,,滿足環(huán)保監(jiān)管要求。

環(huán)保專用,、經(jīng)典技術和現(xiàn)代設計的結合

一,、測量原理:

系統(tǒng)采用可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術進行NH3的測量,以可調諧激光器作為光源,,發(fā)射出特定波長激光束,,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減,,根據(jù)朗伯比爾定律,,氣體濃度與其吸收光強成比例關系,從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度,。因為激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),,且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾,,相比其它復合光源而言,,具有極高的測量精度。

二,、測量方案:

根據(jù)固定污染源氨逃逸測量點溫度不高,、測量濃度低、測量精度要求高等特點,,方案沿用了大方科技經(jīng)典的近位抽取+多反長光程測量池技術,,并進行一體化設計,設備直接安裝在煙道上,,空間占用小,。

系統(tǒng)由取樣分析單元和儀表組成,一體化設計,,安裝于煙道上,,煙氣經(jīng)采樣探頭取樣后直接進入設備樣氣室進行測量分析,無須伴熱管線,。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道振動等對測量的影響,。近位抽取方式則避免了伴熱管線傳輸造成的響應時間的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱,,保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附,。分析單元采用多次反射樣氣室,測量光程可達20米,可大大提高檢測下限,。

,、產(chǎn)品主要特點:

1.采用國際先進的可調諧半導體激光光譜技術,不受背景氣體,、粉塵等因素干擾,,實現(xiàn)快速、準確測量,;

2.抽取氣體直接進入氣室,,不需要經(jīng)過伴熱管線,煙氣接觸的流路全程高溫伴熱無冷點,,避免氨氣吸附和損失,,保證樣氣真實性;

3.內(nèi)置標準氣體參比模塊,,并且進行動態(tài)的補償,,實時鎖住氣體吸收譜線,不受溫度,、壓力以及環(huán)境變化的影響,不存在漂移現(xiàn)象,;

4.采用多次反射長光程測量技術,,光程可達20米,極大地提高測量精度和檢測下限,;

5.模塊化設計,,開機預熱后便可正常運行無需進行現(xiàn)場光路調試,安裝調試靈活方便,;

6.改變傳統(tǒng)分體方式,,采用一體化設計,占用空間??;

7.大方科技特有的樣氣室設計,**技術,,包含維護窗口,,可以在不影響光路的情況下,對污染的光學器件進行清潔,,讓維護更加快速方便,。

四、典型應用:

電廠,、水泥廠,、玻璃廠、陶瓷廠、工業(yè)鍋爐等企業(yè)固定污染源氨逃逸監(jiān)測

煉焦企業(yè)固定污染源氨逃逸監(jiān)測

化工廠固定污染源氨逃逸監(jiān)測

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