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簡介
PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子，就會使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng),；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強,，很容易發(fā)生反應(yīng),，在基片上沉積出所期望的薄膜；具有基本溫度低,、沉積速率快,、成膜質(zhì)量好、針孔較少,、不易龜裂等優(yōu)點,；
1200℃高真空PECVD系統(tǒng)通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫，配置不同的真空系統(tǒng)來達到理想的真空度,；同時通過多路高精度質(zhì)量流量計控制不同氣體,。 主要應(yīng)用于高校、科研院所用于真空鍍膜,、納米薄膜材料制備,，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜,，陶瓷薄膜,，復(fù)合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用,。同時上海煜志良好的售后服務(wù),，使得該產(chǎn)品的整體評價遠超同行業(yè)標準。
主要技術(shù)參數(shù)
爐體結(jié)構(gòu) | 整機采用SUS304不銹鋼材質(zhì),，流線型外觀,，斷熱式結(jié)構(gòu),； 日本技術(shù)真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好,； 爐子底部裝有一對滑軌,，移動平穩(wěn)； 爐子可以手動從一端滑向另一端,，實現(xiàn)快速的加熱和冷卻,； 爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料 |
尺寸重量 | 1730*660*1130mm,；凈重：210kg |
電源 | 電壓：AC220V 50/60Hz,；功率：4KW |
爐管 | 高純石英管，高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強,，耐腐蝕,，熱膨脹系數(shù)極小,； 尺寸：Φ60*1300mm |
法蘭及支撐 | SUS304不銹鋼快速法蘭,，通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空； 一個卡箍就能完成法蘭的連接,，放,、取物料方便快捷； 可調(diào)節(jié)的法蘭支撐,，平衡爐管的受力支撐,； 包含進氣、出氣,、真空抽口針閥,，KF密封圈及卡箍組合 |
加熱系統(tǒng) | 加熱元件采用康泰爾發(fā)熱絲，表面負荷高,、經(jīng)久耐用； 加熱區(qū)長度：300mm 恒溫區(qū)長度：150mm,； 工作溫度：≤1150℃,； **溫度：1200℃； 升溫速率：10℃/min |
溫控系統(tǒng) | 日本富士溫控儀表,，64段控溫程序,，可分步、分段 |
混氣系統(tǒng) | 三路質(zhì)量流量計：數(shù)字顯示,、氣體流量自動控制,；內(nèi)置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥,；管路采用不銹鋼管,，接口為Φ6卡套,；每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥；通過控制面板上的旋鈕來調(diào)節(jié)氣體流量流量規(guī)格：0~1000sccm（可選）,； 流量精度：±1.5% |
高真空系統(tǒng) | 采用雙級旋片真空泵+分子泵,，極限真空可達4.0*10^-4Pa； 復(fù)合真空計,，配置電阻規(guī)+電離規(guī) 抽速：110L/S,； 冷卻：風(fēng)冷； 電源:AC220V 50/60Hz |
射頻電源系統(tǒng) | 輸出功率:0-300W,；功率穩(wěn)定度：±0.1%,；射頻電源頻率:13.56MHz 穩(wěn)定性±0.005%；**反向功率:120W,；射頻電源電子輸出端口:UHF,； 冷卻:風(fēng)冷； 電源:AC187-253V 50/60Hz |
可選配件 | 各種剛玉,、石英坩堝,，石英管，計算機控制軟件 |
保修卡 | 整機一年保修（相關(guān)耗材除外） |
可根據(jù)客戶要求定制,！
暫無數(shù)據(jù),！
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