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SPS 光刻機 POLOS μ

主要特征：

1,、寫入分辨率低至2 μm

2、可調(diào)整的寫作領(lǐng)域和具有可互換目標的解決方案

3,、與CAD文件或位圖圖像兼容

4,、與g線光刻膠兼容

5、兼容多種基材（硅,，玻璃,，金屬，塑料等）

6,、兼容任何樣品尺寸達4英寸的晶片

7,、相機反饋以進行對準步驟

8、由于沒有硬掩模,，節(jié)省了時間和**

9,、將設(shè)計直接覆蓋在樣品上的直觀對齊方法

10,、占地面積小的桌面

11、非常適合微電子,，2D材料,，微流體，光電,，opty或任何其他2D微加工應(yīng)用的技術(shù)

規(guī)格參數(shù)：

1,、光源曝光：435 nm； 對準：525 nm

2,、*小特征尺寸：2至23 μm可調(diào)

3,、對準分辨率：低至1 μm / cm2

4、**曝光面積：75 x75 mm2

5,、基板尺寸：**4”晶圓

6,、系統(tǒng)尺寸：W：（36厘米）； D：（36厘米）; 高：（60厘米）

7,、多合一PC：Win 10,、24英寸全高清

8、SFTprint軟件：機器控制,，步進重復(fù),，自動劑量測試，縫合,，對齊

9,、SFTconverter：將標準格式（gdsii，dxf,，cif,，oas）轉(zhuǎn)換為位圖圖像。 隨附的CAD軟件