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SilcoNert®2000
SilcoNert®2000

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SilcoNert®2000(6,,444,,326和6,511,,760)是非晶硅的化學(xué)保護(hù)屏障,,其進(jìn)一步官能化以提供可用的*惰性表面。通過(guò)應(yīng)用化學(xué)氣相沉積(CVD),,SilcoNert®2000非常適用于硫化物,,汞,氨或其他活性化合物的痕量級(jí)測(cè)試精度(<百萬(wàn)分之一),。

特色與優(yōu)勢(shì)

? 非視距工藝,;所有孔和復(fù)雜的幾何形狀都能被涂層

? 消除吸附和再測(cè)試

? 獲得更快的校準(zhǔn)

? 對(duì)結(jié)果充滿信心

SilcoNert®2000 規(guī)格

薄膜材質(zhì):表面烴化的氫化非晶硅

鍍膜工藝:熱化學(xué)氣相沉積法(非等離子法)

使用溫度450°C(惰性氣體)400°C(氧化性氣體)

基板要求:兼容性:不銹鋼合金,,陶瓷,玻璃,,鈦及大多數(shù)特殊金屬

尺寸:不超過(guò)78英寸(198厘米)

形狀:不限,,可鍍?nèi)魏螐?fù)雜三維結(jié)構(gòu)

標(biāo)準(zhǔn)厚度:100 - 500 nm

疏水性(接觸角):>= 65°

允許接觸的pH值 :0 - 8

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SilcoNert®2000信息由北京明尼克分析儀器設(shè)備中心為您提供,,如您想了解更多關(guān)于SilcoNert®2000報(bào)價(jià),、型號(hào)、參數(shù)等信息,,歡迎來(lái)電或留言咨詢,。
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