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Genius IF

多元素EDXRF光譜分析儀

采用二次靶技術(shù)

能量色散X射線熒光光譜儀Genius IF

Genius IF提供了一種經(jīng)濟高效的元素分析解決方案。該能量色散X射線熒光（EDXRF）光譜儀可以對C（6）- Fm（100）范圍內(nèi)的多種元素進行亞ppm級別無損定性及定量元素分析,。

高度集成的光譜儀采用復(fù)雜獨特的設(shè)計結(jié)合了自定義濾光片和二次靶技術(shù),，可放在傳統(tǒng)實驗室工作臺上，適用于多種高端應(yīng)用領(lǐng)域,。

無損元素分析

通過使用標(biāo)樣或無標(biāo)樣方法（基本參數(shù)）進行定性及定量分析,。

硅漂移探測器（SDD）

高計數(shù)率及分辨率的SDD探測器，分辨率可達125eV,，探測范圍C（6）- Fm（100）,。

X射線源

激發(fā)性能可達50kV，50W,，Rh靶材料,，分析濃度探測限范圍可達亞ppm至100%，其**的性能可適用于復(fù)雜應(yīng)用,。

輕元素探測

超薄探窗能夠?qū)崿F(xiàn)對低序元素探測分析的優(yōu)異性能,。

二次靶技術(shù)及濾光片

采用**幾何結(jié)構(gòu)，設(shè)計8個二次靶及8個自定義濾光片,，可快速準(zhǔn)確的測定痕量和微量元素,。

Analytix專用軟件

Analytix專用軟件優(yōu)異性能以及易用的GUI能夠?qū)椖糠治龊凸芾硖峁?快速直接的反應(yīng)并得到結(jié)果。

定量分析算法

通過元素間修正進行多元回歸分析（6個可用模型）,?？傆嫈?shù)、凈計數(shù)擬合及數(shù)字濾波強度等工具,。

二次靶技術(shù)

全能型元素分析儀

Genius IF采用**幾何結(jié)構(gòu),，設(shè)計8個二次靶并配備直接激發(fā)模式下8個自定義濾光片，使得儀器以**的激發(fā)方式檢測所有元素,。WAG（廣角幾何）**技術(shù)下的二次靶技術(shù)為痕量元素和微量元素的測量提供了**的解決方案,。

由X射線管激發(fā)產(chǎn)生的射線激發(fā)二次靶材料（純金屬）的特征K線，進而用于激發(fā)待測樣品,。通過使用二次靶技術(shù),，可進一步降低某些元素的檢測限。更低的檢測限意味著Genius IF能夠異于傳統(tǒng)EDXRF儀器而適用于更加廣泛的用途,，成為一款全能型多元素分析儀器,。

二次靶技術(shù)與直接激發(fā)模式譜圖對比：

圖中顯示了峰背比提升的效果，其中藍色輪廓部分代表使用了二次靶技術(shù),，而紅色區(qū)域部分為直接激發(fā)模式的圖譜,。