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石墨盤(pán)專用真空烤盤(pán)爐

產(chǎn)品介紹：真空烤盤(pán)爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空,，被處理工件放置在爐膛內(nèi),，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）,。

應(yīng)用范圍：

主要用于有效清除MOCVD承受器 （SiC涂層石墨盤(pán)或石英盤(pán)）上的氮化鎵和氮化鋁等,，可達(dá)到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的,。

設(shè)計(jì)特點(diǎn)：

1,、后門(mén)設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)

2、降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開(kāi)啟,，同時(shí)兩端降溫封頭開(kāi)啟,， 爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向

3、通過(guò)氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn) 行熱交換,，達(dá)到快速降溫的目的

內(nèi)部系統(tǒng)結(jié)構(gòu)及原理：

技術(shù)參數(shù)：