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高濃度石墨烯漿料研磨分散機,，高濃度石墨烯漿料制備設(shè)備,，液相剝離膨脹石墨設(shè)備，水相剪切剝離制備石墨烯設(shè)備,，蠕蟲石墨制備石墨烯研磨設(shè)備,，膨脹石墨制備石墨烯設(shè)備，德國進口高級安全研磨設(shè)備,，高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備

IKN研磨分散機采用獨特設(shè)計,，顯著延長了易損件的使用壽命，特別適用于高硬度及高純度物料的粉碎處理,。該設(shè)備功能多樣,，可單機獨立運行，也可與其他設(shè)備聯(lián)動使用,，且粉碎粒度范圍廣泛,，成品粒徑可根據(jù)需求靈活調(diào)整。

石墨烯憑借其**的力學(xué)性能,、導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性,，吸引了眾多研究團隊對其理論和應(yīng)用展開深入探索,。然而，石墨烯的高昂價格限制了其廣泛應(yīng)用,，因此開發(fā)綠色環(huán)保、高品質(zhì),、大規(guī)模且高濃度的制備工藝成為當(dāng)前石墨烯領(lǐng)域的研究熱點,。這不僅是推動石墨烯實現(xiàn)工業(yè)化應(yīng)用的關(guān)鍵，也是促進傳統(tǒng)材料升級換代的重要環(huán)節(jié),。

液相剝離膨脹石墨是制備高質(zhì)量石墨烯的有效方法之一,，可實現(xiàn)綠色、高品質(zhì)及規(guī)?；a(chǎn),。然而,，膨脹石墨作為一種非極性材料,，具有極強的吸附性能,，其吸油值遠高于活性炭（以NMP為溶劑時尤為顯著）,。在制備石墨烯漿料的過程中,，由于膨脹石墨對溶劑的強吸附作用,，導(dǎo)致其與表面活性劑和溶劑的混合物難以形成穩(wěn)定的連續(xù)懸濁液。特別是在制備高濃度石墨烯漿料時,，初始混合后的物料呈現(xiàn)砂漿狀，超聲波難以在溶劑介質(zhì)中有效傳播,，更無法滲透至膨脹石墨層間,，導(dǎo)致剝離效率顯著降低甚至失敗。

膨脹石墨對油性溶劑和表面活性劑水溶液具有較高的吸附能力,，這使得傳統(tǒng)高濃度石墨烯漿料的制備面臨諸多挑戰(zhàn)。目前常用的方法是通過濃縮低濃度石墨烯漿料來提高濃度,，但該方法存在明顯缺陷。過濾分離過程中,，由于石墨烯片徑較小，需要使用孔徑更小的濾布，這不僅增加了能耗,，還容易導(dǎo)致跑冒滴漏現(xiàn)象,，產(chǎn)生大量濾液廢水和清洗濾布的污水,。而蒸發(fā)濃縮同樣會增加工藝步驟和能耗,，同時需要配備專門的蒸發(fā)水收集系統(tǒng)來處理大量蒸發(fā)水,，進一步提高了生產(chǎn)成本,。

石墨烯 分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料,。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),，運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻,，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度,、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。根據(jù)以往的慣例,，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料,，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,，機座采用304不銹鋼,；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,，可通冷卻或者升溫介質(zhì),。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高,，剪切間隙非常小,，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈,，結(jié)果就是通常所說的濕磨

 2,、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。

3,、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率,，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒,、中齒、細齒,、超細齒,、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機,，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好,，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率,。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,，研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

 IKN分散機在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行,。而普通設(shè)備很難做到連續(xù)長時間的運行,，并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行,。設(shè)備可以控制粒徑大小，流量大小,，支持售前試機及售后,，詳細技術(shù)及價格歡迎來電。

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