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石墨烯包覆硅碳復(fù)合負(fù)極材料設(shè)備,，鋰離子電池制備專用設(shè)備研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī),，德國進(jìn)口研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī),，高效率研磨分散機(jī)

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,，能夠延長易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎,?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用,，且粉碎粒度范圍廣,，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

鋰離子電池以其能量密度大,、工作電壓高,、自放電率小、體積小,、重量輕,，循環(huán)壽命長等優(yōu)勢廣泛應(yīng)用于各種便攜式電子設(shè)備和電動(dòng)汽車中。目前商業(yè)化的鋰離子電池負(fù)極材料主要為石墨類負(fù)極材料,，但因其理論比容量僅為(4200mAh/g)和低嵌鋰電位引起人們的廣泛關(guān)注,，此外硅還具有儲(chǔ)量豐富，成本低,，環(huán)境友好等優(yōu)點(diǎn),，有望成為下一代鋰離子電池負(fù)極材料。然而,，硅負(fù)極由于其在鋰的嵌入脫嵌循環(huán)過程中要經(jīng)歷嚴(yán)重的體積膨脹和收縮,，造成材料結(jié)構(gòu)的破壞和機(jī)械粉碎,，從而導(dǎo)致電極循環(huán)性能的衰退，限制其商業(yè)化應(yīng)用,。為了解決這些問題,，目前主要通過硅顆粒納米化，硅與其它金屬合金化,，硅與惰性或活性基質(zhì)復(fù)合三種主要途徑來改善硅基負(fù)極材料循環(huán)性能,。其中硅(< 10% )，電子導(dǎo)電性好,，且由碳基質(zhì)形成的”還能補(bǔ)償硅顆粒的體積膨脹,，維持納米硅的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，從而使材料的循環(huán)性能明顯改善,。同時(shí),，石墨烯作為一種新型碳納米材料，由單層
石墨烯包覆納米硅IKN研磨分散機(jī)處理以形成懸浮液,，氧化石墨烯納米硅和石墨微粉的質(zhì)量比為500 80(TC熱處理,，得到經(jīng)熱還原的石墨烯包覆的納米硅和石墨微粉復(fù)合負(fù)極材料。納米硅和石墨微粉中納米硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為Hrnnmer法制備得到,。分散劑為聚乙烯醇,、聚氧化乙烯、聚丙烯酰胺,、聚乙二醇,、丙二醇中的至少一種。I 500nm硅粉,，所述石墨微粉為170 200°C,。所得復(fù)合負(fù)極材料，石墨烯包覆在外層,，內(nèi)部為納米硅和石墨微粉,，顆粒形狀為類球形。平均粒徑大小可以在I 10 μ m)范圍內(nèi)變化,。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于(2)采用石墨烯將石墨微粉與納米硅包裹,，造球過程中不需添加粘結(jié)劑提高活性物質(zhì)含量，進(jìn)行提高材料可逆比容量,。傳統(tǒng)方法將石墨與納米硅造粒復(fù)合時(shí),，一般要加入有機(jī)粘結(jié)劑如蔗糖、葡萄粘,、樹脂等,，這些有機(jī)物在后續(xù)熱過程中會(huì)分解產(chǎn)生氣體并得到熱解碳，使材料密度降低,、比表面積增大,，增加了材料的不可逆容量,、降低**充放電效率。

(4)噴霧造球后再熱處理形成外層為石墨烯,，內(nèi)部為納米硅(5)本發(fā)明采用噴霧干燥制備納(見說明書附圖(6)由于噴霧干燥制得的鋰離子電池復(fù)合負(fù)極材料為球形顆粒,，所以材料的振實(shí)密度得到提高，從而能量密度得到提高,。

10倍,，是決定復(fù)合材料容量的關(guān)鍵活性物質(zhì)?？筛鶕?jù)實(shí)際需要,，通過設(shè)計(jì)硅在復(fù)合材料中的含量來決定復(fù)合材料的容量。因此,，本發(fā)明方法簡單易行,，實(shí)用化程度高，制備的硅碳復(fù)合材料具有可逆容量大,、容量可設(shè)計(jì),、循環(huán)性能和大電流放電能力好、振實(shí)密度高等優(yōu)點(diǎn),。 

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料,。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行,。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強(qiáng)的流體湍流下,，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度,、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下,，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要,。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用,。

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率,，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒,、中齒、細(xì)齒,、超細(xì)齒,、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī),，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好,，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率,。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,，研磨分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

研磨分散機(jī)的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,，將先jin的技術(shù)與創(chuàng)xin的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力

更可靠 采用整體式機(jī)械密封,，zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國ji先jin的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),，滿足生產(chǎn)中的粗,、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%