參考價(jià)格
5-10萬元型號(hào)
CMD2000品牌
IKN產(chǎn)地
德國樣本
暫無能耗:
2.20-110處理量:
300-40000物料類型:
其它工作原理:
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石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī),石墨烯復(fù)合材料研磨分散機(jī),,納米硅研磨分散機(jī),,石墨烯復(fù)合漿料研磨分散機(jī),德國進(jìn)口高剪切研磨分散機(jī),,高轉(zhuǎn)速研磨分散機(jī),,膠體磨升級(jí)款研磨機(jī)
IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,能夠延長易損件的使用時(shí)間,,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎,。可以一機(jī)多用,,也可以單獨(dú)使用,,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整,。
石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來的獨(dú)特光學(xué)特性,,用于紅外光探測有著突出的優(yōu)勢。但也存在著明顯的劣勢:本征石墨烯自身由于光吸收率低,、缺乏光增益機(jī)制,,導(dǎo)致石墨烯探測器的光響應(yīng)率較低;石墨烯自身的光生載流子壽命短,,僅皮秒左右,,導(dǎo)致光生載流子難以有效收集,也嚴(yán)重影響探測器的光響應(yīng)率,,石墨烯探測器的低響應(yīng)率無法滿足實(shí)際應(yīng)用的需要,。目前,通過對(duì)石墨烯進(jìn)行量子點(diǎn)修飾,、構(gòu)筑 PN 結(jié),、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合,、石墨烯與微腔或硅波導(dǎo)集成等多種方法,,可以不同程度地提高石墨烯探測器的光響應(yīng)率,以達(dá)到或接近實(shí)際應(yīng)用的需要,。
由于鋰離子電池具有高容量,、無記憶效應(yīng),、快速可逆充放電、高庫倫效率等優(yōu)點(diǎn),,其已在便攜式電子產(chǎn)品如手機(jī),、筆記本電腦、數(shù)碼相機(jī)等中得到廣泛應(yīng)用,。然而再近二十年來,,人們再大容量鋰離子二次電池的研究商進(jìn)展緩慢。為滿足對(duì)高容量鋰離子二次電池的需求,,開發(fā)高容量,、低成本的新型電極材料具有很高的研究價(jià)值。
硅石一種理想的鋰離子電池負(fù)極材料,,其具有很高的理論儲(chǔ)鋰容量以及較低的儲(chǔ)理點(diǎn)位,。而在充放電過程中,硅極材料的體積效應(yīng)使得該材料容易粉化,,進(jìn)入從集流體上剝落,,從而導(dǎo)致容量迅速衰減。而且,,硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應(yīng)用
石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準(zhǔn)二維材料,。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比,、優(yōu)異的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性,。
上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),,精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),,運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行,。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,,改良成兩級(jí)模塊,,加入了一級(jí)分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,,2G,4M,,6F,,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,,分散,乳化,,均質(zhì)等功能,,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍,。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,。
第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強(qiáng)的流體湍流下,,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度,、中等精度,、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用,。
CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送,;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼,;特殊要求如:硬度較大物料,,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷,;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
1,、 線速度很高,剪切間隙非常小,,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,,形成的摩擦力就比較劇烈,,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2,、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽,。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4,、 在增強(qiáng)的流體湍流下,,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5,、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級(jí):化工級(jí),、衛(wèi)生I級(jí),、衛(wèi)生II級(jí),、無菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá),、變頻調(diào)速馬達(dá),、防爆馬達(dá),、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ,、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 ,、SUS316L ,、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐,、排污閥,、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭,、螺口,、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
從設(shè)備角度來分析,,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,、中齒、細(xì)齒,、超細(xì)齒,、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了,。)
線速度的計(jì)算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率,。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
工藝應(yīng)用:
食品纖維類物料的濕法超細(xì)破碎與均質(zhì) 可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解
動(dòng)物和植物組織的超細(xì)破碎及漿化加工 不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散
不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散 納米材料團(tuán)聚物的強(qiáng)力解聚與超細(xì)分散
IKN研磨分散機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域:
1,、 精細(xì)化工,、顏料、染料,、涂料,、油漆、塑料,、樹脂,、熱熔膠、阻燃劑,、膠黏劑,、整理劑、表面活性劑,、均染劑防粘劑,、消泡劑,、光亮劑、橡膠助劑,、塑料輔劑,、染料助劑、絮凝劑,、混凝劑,、表面活性劑溶劑、硅油乳化,、樹脂乳化,、炭墨分散
2、 石油化工,、潤滑油,、重油混合、油包水,、包油水,、柴油乳化、改性瀝青,、乳化瀝青,、催化劑、蠟乳化
3,、 農(nóng)藥化肥 ,、化肥、農(nóng)藥乳化,、農(nóng)藥助劑,、農(nóng)藥中間體、藥乳油,、殺蟲劑,、除草劑、種衣劑,、殺菌劑,、植物激素、尿素,、復(fù)合肥,、乳油濕性粉劑
4、 生物醫(yī)藥,、細(xì)胞漿化,、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑,、藥乳膏,、抗生素,、糖衣
5、 日用化工,、護(hù)膚霜,、護(hù)膚膏、洗滌劑,、防腐劑,、美發(fā)用品、牙膏,、日用香精
6,、 食品工業(yè)、食品添加劑,、香精香料,、果汁、果醬,、冰淇淋,、乳制品、巧克力,、植脂末
7,、 涂料油墨、內(nèi)外墻涂料,、乳膠漆,、納米涂料、建筑膠,、光固化涂料、油墨,、墨水,、碳黑、涂料助劑釉,、膨潤土
IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎,??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,,且粉碎粒度范圍廣,,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機(jī),,防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機(jī),,納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機(jī),,連續(xù)式納米二氧化硅分散機(jī),在線式納米二氧化硅分散機(jī),,德國進(jìn)口分散機(jī),,在線式分散機(jī)IK
2019-03-15
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