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二氧化硅牙齒高級填充物納米分散機,，塑料牙制納米分散機，二氧化硅納米分散機，氣相二氧化硅納米分散機,，高固含納米二氧化硅分散機

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。

AEROSIL?氣相法二氧化硅可用于制造復雜的齒科材料的配方中以達到高的填充量。這主要歸功于經過后處理的AEROSIL?氣相法二氧化硅,，其增稠效果低,，從而提供了高填充性的可能AEROSIL?DT 4通過結構改性可以隨意引入塑料牙制作配方中，幾乎不影響材料的流變性,。添加AEROSIL?R 711可以得到特別堅固的復合物,，這種經過后處理的氣相法二氧化硅有很強的增稠作用，加入少量就能夠影響流變性,。AEROSIL ?OX 50因其寬的粒度分布而用于齒科塑料的基本材料。在制造復合材料時,，AEROSIL?氣相法二氧化硅對塑料牙齒,、填充物、鑲飾物及牙冠的顏色沒有任何不利的影響,。

納米材料分散 

目前,，XX產品質量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿足用戶的需要,。由于我們行業(yè)的特點,，有相當多的中小企業(yè)分散設備十分落后，分散時根本形成不了剪切力,，只是一種攪拌,，氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網狀結構，從而無法發(fā)揮材料的性能,。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識．許多生產商并未意識到分散的重要性,；② 不知道對*終產品的品質如何評價，

    研磨時間對粉體產品細度的影響一般而言,，研磨時間越長,，則研磨效果越好，

但顆粒的細化達到一定程度則很難再進一步細化,。因為隨著顆粒粒度的減小,，比表面積迅速增大，顆粒表面激活點增多，表面自由能增大,，體系處于極不穩(wěn)定狀態(tài),，微細顆粒間則彼此團聚形成“假顆粒”,，以降低比表面積,；若再延長研磨時間，輸入體系的能量則用于粉碎“假顆?！?，“假顆粒”粉碎后又很快重新團聚,，整個體系處于團聚—磨細的動態(tài)平衡中,，從而大大降低了研磨能力和效率。

分散劑對粉體產品細度的影響

在超細研磨過程中,，一方面物料顆粒接受施能被粉碎,，另一方面被磨細顆粒因表面能增大又極易

團聚在一起，形成“假顆?！?，“假顆粒”被粉碎后又團聚,。因此在研磨進行到一定程度時,，過程已處于團聚—磨細的動態(tài)平衡中，研磨效率大大降低,。分散劑是濕法超細研磨中的重要調節(jié)因素,。對于超細磨，添加一定量的分散劑以后,，因與物料間的吸附作用,，改變了顆粒間的相互依從狀態(tài)，使細顆粒物料保持分散狀態(tài),，分散劑并能吸附在物料表面降低表面能,，改善漿料的流變性，使研磨效率提高

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料,。研磨分散機為立式分體結構,，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊,，加入了一級分散盤,。可根據物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G,，4M，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨,，分散，乳化,，均質等功能,，設備轉速可達14000rpm，是目前國產設備轉速的4-5倍,。

在做納米粉體分散或研磨時,，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要,。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
    

CMD2000系列的線速度很高,，剪切間隙非常小,，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈,，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。