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碳納米鋰電漿料分散設(shè)備
碳納米鋰電漿料分散設(shè)備

參考價格

10-20萬元

型號

CMD2000

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國

樣本

暫無
上海依肯機械設(shè)備有限公司

金牌會員

|

第14年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 粉碎程度:

    超細粉碎
  • 單位能耗:

    0-10
  • 產(chǎn)量:

    300-40000
  • 裝機功率(kw):

    4
  • 成品細度:

    0-0.2
  • 入料粒度(mm):

    0-100
  • 工作原理:

    介質(zhì)研磨
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碳納米鋰電漿料分散設(shè)備,碳納米管導(dǎo)電漿料分散機,,高轉(zhuǎn)速分散機

 

碳納米管是一種新型的碳素材料,,由呈六邊形排列的碳原子構(gòu)成數(shù)層至數(shù)十層的同軸圓管,層與層之間保持固定的距離,,約0.34nm,,直徑一般為2-20納米。

  

碳納米管以其優(yōu)異的性能,,在塑料改性,,微型電路芯片,靜電屏蔽,,鋰電池電極等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用,。

 

 

碳納米管導(dǎo)電漿料優(yōu)缺點

(1) 碳納米管具有良好的電子導(dǎo)電性,纖維狀結(jié)構(gòu)能夠在電極活性材料中形成連續(xù)的導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò);

(2) 添加碳納米管后極片有較高的韌性, 能改善充放電過程中材料體積變化而引起的剝落, 提高循環(huán)壽命,;

(3) 碳納米管可大幅度提高電解液在電極材料中的滲透能力,;

(4) 碳納米管的主要缺點在于不易分散,,與液體借出后容易團聚,粉末還滿天飛揚,。

 

碳納米管分散難點

碳納米管導(dǎo)電漿料分散機,,碳納米管分散,其實也就是所謂的納米級物料的分散,,在做納米粉體分散或研磨時,,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要,。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)姆稚⒃O(shè)備來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散的關(guān)鍵。

想要解決這些難點并不困難,,只要充分的將碳納米管粉料與介質(zhì)(水,、NMPPVDF)等充分分散均勻即可,。IKN研磨分散均質(zhì)機是針對易團聚且分散效果不好的物料研發(fā)的,其設(shè)計上是采用膠體磨與分散機結(jié)合設(shè)計而成,,也是膠體磨的升級版本,,上面一層采用錐體磨設(shè)計,使得物料能夠在定轉(zhuǎn)子間距小的間隙(間隙可調(diào))間進行研磨,,研磨后的物料瞬間進入第二層分散均質(zhì)層進行剪切分散均質(zhì),。除此之外還具有以下特點:

1,、設(shè)備運轉(zhuǎn)速度高達14000轉(zhuǎn),,是目前普通設(shè)備的4-5倍,高效細化分散研磨物料

2,、定轉(zhuǎn)子之間的間隙是可調(diào)的,研磨縫隙調(diào)節(jié)可以改變適用于特定工藝

3,、膠體磨頭設(shè)有三道磨碎區(qū),,一層為粗磨碎區(qū),,二層細磨碎區(qū),三層為超微磨碎區(qū),,通過調(diào)整定,、轉(zhuǎn)子的間隙,能有效地達到所需的超微粉碎效果(也可循環(huán)加工),。

4、機身腔體采用三層夾套設(shè)計可以冷卻也可以加熱

5,、采用德國雙端面機械密封,,在保證有冷卻水的情況下,可以24小時連續(xù)不間斷工作

6,、從實驗室設(shè)備平穩(wěn)過渡到中試型實驗以及后期的工業(yè)化放大實驗,,無需重新調(diào)整實驗數(shù)據(jù),降低了設(shè)備投資的風(fēng)險

 

從設(shè)備角度來分析,,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,、中齒,、細齒、超細齒,、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間,、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,,到設(shè)備的期限就不能再好了,。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級,、衛(wèi)生I級,、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達,、變頻調(diào)速馬達,、防爆馬達、變頻防爆馬達,、
電源選擇 380V/50HZ,、220V/60HZ440V/50HZ
電機選配件 PTC 熱保護,、降噪型
研磨分散機材質(zhì)SUS304 ,、SUS316L SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥,、變頻器,、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光,、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭,、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 


創(chuàng)新點

設(shè)備運轉(zhuǎn)速度高達14000轉(zhuǎn),,是目前普通設(shè)備的4-5倍,,高效細化分散研磨物料,采用德國雙端面機械密封,,在保證有冷卻水的情況下,,可以24小時連續(xù)不間斷工作

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