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20%固含量碳納米管分散液研磨分散機
20%固含量碳納米管分散液研磨分散機

參考價格

10-20萬元

型號

CMSD2000

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國

樣本

暫無
上海依肯機械設備有限公司

金牌會員

|

第15年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 粉碎程度:

    超細粉碎
  • 單位能耗:

    0-10
  • 產(chǎn)量:

    300-60000
  • 裝機功率(kw):

    2.2
  • 成品細度:

    0-0.2
  • 入料粒度(mm):

    0-100
  • 工作原理:

    輥壓碾磨
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碳納米管分散液研磨分散機,,碳納米管高速研磨分散機,碳納米管進口研磨分散機,,碳納米管分散液管線式分散機,,IKN高速分散機,不銹鋼高速分散機

 

碳納米管,、碳納米管分散劑和液體介質混合均勻后,,經(jīng)過特定的分散設備和分散工藝,制備出碳納米管漿料,。漿料產(chǎn)品具有高含量,、高流動性的特點,是經(jīng)濟型的分散產(chǎn)品,。
   

碳納米管漿料經(jīng)過離心沉降處理,,進一步提高分散品質,得到碳納米管分散液,。分散液產(chǎn)品具有高分散性,、高穩(wěn)定性的特點,是精致型的分散產(chǎn)品,。

 

 

碳納米管分散液由多壁碳納米管,、碳納米管分散劑,、液體介質等三種成分組成,,經(jīng)過特定的機械研磨設備和分散工藝,首先制備出碳納米管漿料,。碳納米管漿料再經(jīng)過14000轉/秒,、0.5小時高速剪切處理,進一步提高分散品質,,得到高分散性,、高穩(wěn)定性的碳納米管分散液,是精致型的分散產(chǎn)品,。

 

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質的混合過程,。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布。 

眾所周知納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發(fā)揮,。納米材料的分散顆粒細化到納米級后,,其表面積累了大量的正、負電荷,,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,,當降至1nm時,,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,,處于高度活化狀態(tài),,導致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性,,表現(xiàn)出強烈的表面效應,,很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生


納米材料的分散 目前,,國內產(chǎn)品質量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散,,能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點,,有相當多的中小企業(yè)分散設備十分落后,,分散時根本形成不了剪切力,只是一種攪拌,,氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網(wǎng)狀結構,,從而無法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識.許多生產(chǎn)商并未意識到分散的重要性,;② 不知道對***終產(chǎn)品的品質如何評價,,

分散方式 :研磨分散,沙磨分散,,球磨分散等

研磨分散機為立式分體結構,,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,,保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,,改良成兩級模塊,,加入了一級分散盤,。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,,2G,,4M,6F,,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,,分散,乳化,,均質等功能,,設備轉速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設備轉速的4-5倍,。

從設備角度來分析,,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒,、中齒,、細齒、超細齒,、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間,、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,,到設備的期限就不能再好了,。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距,。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,,可以被調節(jié)到**允許量的10%

 

碳納米管分散液研磨分散機,,碳納米管高速研磨分散機,碳納米管進口研磨分散機,,碳納米管分散液管線式分散機,,IKN高速分散機,不銹鋼高速分散機

 





13795214885  賈清清



創(chuàng)新點

具有非常高的剪切速度和剪切力,,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散分散的穩(wěn)定性,。該設備可以適用于各種分散分散工藝,,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,、懸浮液和膠體的均質混合。

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用戶評論

產(chǎn)品質量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

性價比

10分
評論內容
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