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硫酸鋇溶液中試型研磨分散機,，硫酸鋇溶液研磨分散機，硫酸鋇溶液膠體磨,，硫酸鋇溶液研磨機,，硫酸鋇研磨分散機

IKN研磨分散機設(shè)計獨特,，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎,?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用,，且粉碎粒度范圍廣,，成品粒徑可以進行調(diào)整。

硫酸鋇,，適用于上,、下消化道造影,。無臭,、無味粉末，密度4.25-4.5,，分解溫度＞1600℃,。溶于熱濃硫酸，幾乎不溶于水,、稀酸,、醇。水懸浮溶液對石蕊試紙呈中性,。
    

對于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),，目前許多廠家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn)，由于國產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),，生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒   徑一般在20μm左右,，而且生產(chǎn)效果很低，需要研磨5-6小時,。而使用IKN研磨分散機進行處理,，研磨兩遍，粒徑可以細化到5μm,，效果好,，效率高。

研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,，效果遠遠好于單臺膠體磨處理的效果,，研磨分散機是一臺目前型的研磨分散設(shè)備

硫酸鋇CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì),。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G,，4M,，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料,。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊,，改良成兩級模塊,，加入了一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散,，乳化,，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍,。

研磨分散機的特點：

線速度很高，剪切間隙非常小,，當(dāng)物料經(jīng)過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。

定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級,、衛(wèi)生II級,、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達,、防爆馬達,、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ,、220V/60HZ,、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 ,、SUS316L ,、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥,、變頻器,、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光,、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭,、螺口,、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

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