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多孔氧化鋁成膜條件的研究及其應(yīng)用

編號:FTJS02985

篇名:多孔氧化鋁成膜條件的研究及其應(yīng)用

作者:寧光輝,; 胡東海,; 周梅; 王燕青;

關(guān)鍵詞:多孔氧化鋁,; 陽極氧化,; 有序性,; 氧化鋅,;

機(jī)構(gòu): 四川師范大學(xué)化學(xué)與材料科學(xué)學(xué)院;

摘要: 為了研究多孔氧化鋁的成膜條件,以0.3 mol/L草酸為電解液,通過兩次陽極氧化制備出多孔氧化鋁模板.通過掃描電鏡(SEM),X射線衍射(XRD)對模板形貌進(jìn)行觀察,研究了多孔陽極氧化鋁的制備和成膜條件.以制備的氧化鋁膜為陰極,鉑電極為陽極,硝酸鋅和六亞甲基四胺為電解溶液,采用溶液沉積制備點(diǎn)陣列氧化鋅晶體并討論發(fā)光性能.

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