編號：FTJS02905
篇名：非平衡磁控濺射沉積類石墨碳膜結(jié)構(gòu)及其摩擦學(xué)性能
作者：王永軍,； 李紅軒,； 吉利,； 劉曉紅,； 吳艷霞,； 周惠娣,； 陳建敏；
關(guān)鍵詞：類石墨碳膜,； 磁控濺射,； 摩擦磨損；
機構(gòu)： 中國科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所固體潤滑國家重點實驗室,； 中國科學(xué)院北京研究生院,；
摘要： 利用非平衡磁控濺射技術(shù)在單晶硅基底上沉積了類石墨非晶碳膜。利用X射線光電子光譜,、Ram an光譜,、高分辨透射電子顯微鏡及原子力顯微鏡對沉積薄膜的微觀結(jié)構(gòu)進行了詳細表征;利用納米壓痕儀和球盤摩擦試驗機分別對其力學(xué)性能和摩擦學(xué)性能進行了測試。結(jié)果表明,當(dāng)前制備的非晶碳膜中sp2雜化碳占主導(dǎo)呈現(xiàn)出類石墨特征,但薄膜硬度可達14.2 GPa,。大氣環(huán)境中的摩擦性能測試表明,所制備的類石墨非晶薄膜具有優(yōu)異的摩擦學(xué)性能:其承載能力高達2.8 GPa,同時具有較低摩擦因數(shù)(~0.05)和磨損率(~10-11cm3/Nm),。類石墨碳膜優(yōu)異的摩擦學(xué)性能主要歸因于其獨特的結(jié)構(gòu)、較低的內(nèi)應(yīng)力及良好的熱穩(wěn)定性,。
