編號：NMJS02984
篇名：Cr,Al顆粒尺寸對Ni-Cr-Al復(fù)合鍍層氧化行為的影響
作者：楊秀英； 趙艷紅,； 彭曉,； 王福會；
關(guān)鍵詞：電沉積,； Ni-Cr-Al,； 納米復(fù)合鍍層； 顆粒尺寸效應(yīng),； 氧化,；
機構(gòu)： 沈陽理工大學(xué)應(yīng)用技術(shù)學(xué)院； 中國科學(xué)院金屬研究所金屬腐蝕與防護國家重點實驗室,；
摘要： 分別用納米顆粒Cr（平均尺寸62 nm）,Al（平均尺寸85nm）和微米顆粒Cr和Al（平均尺寸3μm）復(fù)合電沉積制備Ni-11Cr-3Al納米復(fù)合鍍層（ENC）和Ni-11Cr-7Al微米復(fù)國鍍層（EMC）,。納米顆粒的復(fù)合使ENC Ni-11Cr-3Al比EMC Ni-11Cr-7Al的顆粒分布更加均勻,顆粒間距減小近25倍。900℃,24h恒溫氧化實驗表明,ENC Ni-11Cr-3Al與EMC Ni-11Cr-7Al相比氧化速率顯著降低,。這是由于其快速形成一層連續(xù),、致密的Cr2O3膜,進而促進其下Al2O3膜的快速形成所致。
