編號：NMJS02685
篇名：納米晶體Ti表面磁控濺射SiC薄膜的干摩擦學性能
作者：許曉靜； 郝欣妮,； 陸樹顯,； 卓劉成； 夏登福,；
關(guān)鍵詞：納米晶體鈦基材,； 薄膜； 摩擦磨損,； 磁控濺射,；
機構(gòu)： 江蘇大學；
摘要： 采用室溫磁控濺射技術(shù)在納米晶體鈦(劇烈塑性變形制備)表面制備出碳化硅(SiC)薄膜,研究SiC薄膜的組織結(jié)構(gòu),、納米壓痕行為和摩擦磨損性能,。結(jié)果表明:SiC薄膜具有納米尺度"疇"特征的表面形貌、高含量Si-C鍵,、與基材間具有明顯且呈梯度的元素擴散,、低的納米硬度(10.62GPa)、低的彈性模量(83.34GPa)和高的硬模比(0.128),。在1.96N載荷,、氮化硅球(半徑為2mm)為對摩件、室溫空氣條件下,其磨損速率為10-5mm3.m-1.N-1級,、摩擦系數(shù)約為0.162,磨損后薄膜不出現(xiàn)裂紋和剝落,。
