編號：NMJS02569
篇名：原子運動速度對激光駐波場作用下納米光柵沉積特性的影響
作者：張文濤,； 朱保華,； 熊顯名,； 黃靜,；
關(guān)鍵詞：原子光刻,； 納米計量,； 激光駐波場,； 納米光柵結(jié)構(gòu),；
機構(gòu)： 桂林電子科技大學(xué)電子工程與自動化學(xué)院,； 貴州民族學(xué)院科技處,；
摘要： 利用近共振激光駐波場操縱中性原子實現(xiàn)納米光柵的沉積是一種新型的研制納米結(jié)構(gòu)方法,處于激光駐波場中的原子運動速度特性對最終納米光柵的沉積特性有著重要的影響.利用半經(jīng)典理論,基于4階Runge-Kutta算法進行了不同鉻原子縱向和橫向運動速度條件下納米光柵結(jié)構(gòu)沉積的仿真研究.研究表明,鉻原子縱向速度為最大概率速度960m/s時,所形成的納米光柵的半高寬為1.49nm,對比度為62.1:1,當(dāng)鉻原子的縱向速度為半最大概率速度480m/s時,納米光柵的半高寬為5.35nm,對比度下降為25.6:1.同時,對原子的橫向速度影響沉積特性的研究表明,當(dāng)原子的橫向運動速度為0.25m/s時,納米光柵結(jié)構(gòu)的半高寬為4.18nm,條紋對比度為20.9:1,當(dāng)原子的橫向運動速度為0.50m/s時,納米光柵結(jié)構(gòu)的半高寬變?yōu)?8.4nm,條紋對比度減小為8.9:1,沉積條紋質(zhì)量下降.
