編號(hào)：NMJS02535
篇名：磷離子注入納米金剛石薄膜的n型導(dǎo)電性能與微結(jié)構(gòu)研究
作者：胡曉君； 胡衡,； 陳小虎； 許貝,；
關(guān)鍵詞：納米金剛石薄膜,； n型； 磷離子注入,；
機(jī)構(gòu)： 浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程與材料學(xué)院；
摘要： 系統(tǒng)研究了磷離子注入并在不同溫度退火后的納米金剛石薄膜的微結(jié)構(gòu)和電學(xué)性能.研究表明,當(dāng)退火溫度達(dá)到800℃以上時(shí),薄膜呈良好的n型電導(dǎo).Raman光譜和電子順磁共振譜的結(jié)果表明,薄膜中金剛石相含量越高和完整性越好,薄膜電阻率越低.這說明納米金剛石晶粒為薄膜提供了電導(dǎo).1000℃退火后,薄膜晶界中的非晶石墨相有序度提高,碳懸鍵數(shù)量降低,薄膜電阻率升高.薄膜導(dǎo)電機(jī)理為磷離子注入的納米金剛石晶粒提供了n型電導(dǎo),非晶碳晶界為其電導(dǎo)提供了傳輸路徑.
