編號(hào)：NMJS02416
篇名：聚酰亞胺/碳化硅納米材料的制備及性能研究
作者：陳�,�,； 陳江聰,； 賀國(guó)文； 李�,。�
關(guān)鍵詞：聚酰亞胺,； SiC,； 制備； 表征,；
機(jī)構(gòu)： 中南大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,；
摘要： 用原位聚合法制備了聚酰亞胺/SiC復(fù)合膜,SiC使用偶聯(lián)劑(3-氨丙基-三乙氧基硅烷)改性,采用FT-IR、SEM,、TGA等對(duì)雜化膜的化學(xué)結(jié)構(gòu)和形態(tài)進(jìn)行表征和分析,。結(jié)果表明:偶聯(lián)劑改性SiC成功,在含量為3%時(shí),改性SiC在PI基體中分散效果比未改性SiC要好;偶聯(lián)劑的加入對(duì)PI和SiC的結(jié)晶性能有少量影響,對(duì)PI復(fù)合膜的熱穩(wěn)定性幾乎沒(méi)有影響。
