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基于羧基化碳納米管修飾電極伏安法同時測定痕量銦和鋁

編號:NMJS02337

篇名:基于羧基化碳納米管修飾電極伏安法同時測定痕量銦和鋁

作者:李俊華; 鄺代治; 馮泳蘭,; 屈景年;

關(guān)鍵詞:碳納米管,; 化學(xué)修飾電極; 線性掃描伏安法,; 銦,; 鋁;

機(jī)構(gòu): 衡陽師范學(xué)院化學(xué)與材料科學(xué)系,; 功能金屬有機(jī)材料湖南省普通高等學(xué)校重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,;

摘要: 基于羧基化多壁碳納米管(c-MWCNT),制備了可同時測定In3+和Al3+的新型碳材料修飾電極。利用循環(huán)伏安法(CV)和交流阻抗法(EIS)對此修飾電極進(jìn)行了表征,用線性掃描伏安法(LSV)研究了In3+與Al3+共存于修飾電極上的電化學(xué)行為,。與裸玻碳電極相比,新型碳材料修飾電極的電化學(xué)活性得到很大提高;In3+與Al3+無需電分離即可在此電極上實(shí)現(xiàn)同時被檢測;1.0×10-9~2.5×10-8mol/L In3+和5.0×10-9~5.0×10-8mol/L Al3+與其峰電流差呈良好線性關(guān)系,其相關(guān)系數(shù)分別為0.9943和0.9975;同一個修飾電極連續(xù)測定6次,In3+和Al3+的RSD分別為1.5%和1.7%,說明其穩(wěn)定性較好;用于金屬冶煉廠附近湘江水樣中In3+和Al3+含量的測定,回收率分別在97.0%~102.0%和95.0%~101.8%之間,。

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