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X射線Rietveld方法在納米材料研究領(lǐng)域的應(yīng)用

編號:NMJS02226

篇名:X射線Rietveld方法在納米材料研究領(lǐng)域的應(yīng)用

作者:周玉華,; 宋武林,; 柯莉,; 曾小川,; 謝長生,;

關(guān)鍵詞:納米材料,; X射線Rietveld,; 結(jié)構(gòu)精修,; 定量分析,; 微結(jié)構(gòu)分析,;

機(jī)構(gòu): 華中科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院模具技術(shù)國家重點實驗室; 華中科技大學(xué)分析測試中心,;

摘要: 納米材料由于獨特的微結(jié)構(gòu)和奇異性能成為當(dāng)今世界范圍內(nèi)研究與開發(fā)的熱點,。鑒于Rietveld方法在常規(guī)固體材料方面廣泛而成功的應(yīng)用,將Rietveld方法引入到納米研究領(lǐng)域具有重要的意義。簡要介紹了Rietveld方法的基本原理及其在納米材料的晶體結(jié)構(gòu)精修,、物相定量分析和微結(jié)構(gòu)分析等方面的應(yīng)用,。

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