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化學鍍法制備SiCp-Ni復合粉體

編號:FTJS00126

篇名:化學鍍法制備SiCp-Ni復合粉體

作者:鄒正軍 劉君武

關鍵詞:化學鍍法 制備 SiCp-Ni復合粉體 化學鍍鎳 鍍層性能

機構: 合肥鐵路工程學院,,安徽合肥230011 合肥工業(yè)大學材料學院,,安徽合肥230009

摘要: 研究了酸性化學鍍在SiCp陶瓷粉末表面涂覆Ni-P合金,考察了鍍液的溫度,pH值及粉末粒度對鍍液穩(wěn)定性和鍍層性能的影響,結果表明,,粉體越細,,穩(wěn)定施鍍溫度越低,,合理選擇工藝參數(shù)可使粒徑從200um-10um的SiCP粉末得到均勻鍍層,,鍍層P含量隨pH值升高而降低,鍍層結構為非晶態(tài),。

出處:表面技術.2002,31(5).-19-21

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