編號(hào)：NMJS01167
篇名：稀釋劑含量對(duì)光固化納米羥基磷灰石復(fù)合材料機(jī)械性能的影響
作者：王云; 王青山;
關(guān)鍵詞：稀釋劑; 納米羥基磷灰石復(fù)合材料; 固化深度; 機(jī)械強(qiáng)度;
機(jī)構(gòu)： 濱州醫(yī)學(xué)院附屬醫(yī)院口腔內(nèi)科;
摘要： 目的比較不同含量稀釋劑對(duì)新型光固化納米羥基磷灰石復(fù)合材料機(jī)械性能的影響,。方法按照雙酚A-甲基丙烯酸縮水甘油酯(B is-GMA)與雙甲基丙烯酸二縮三乙二醇酯(TEGDMA)的質(zhì)量比8∶2、7∶3,、6∶4合成三份樹脂基質(zhì),然后與經(jīng)過KH-570表面處理后的納米羥基磷灰石按質(zhì)量比為45∶55共混,制備成3組光固化納米羥基磷灰石復(fù)合樹脂,分別記為A組,、B組、C組,A2型卡瑞斯瑪復(fù)合樹脂為對(duì)照組記為D組,每組制作5個(gè)試件,測(cè)定各組固化深度,、抗壓強(qiáng)度和撓曲強(qiáng)度,用方差分析比較其差異,。結(jié)果隨著稀釋劑比例的增加,實(shí)驗(yàn)組的固化深度變化不明顯,與對(duì)照組有明顯統(tǒng)計(jì)學(xué)差異(P<0.05);實(shí)驗(yàn)組壓縮強(qiáng)度與撓曲強(qiáng)度均呈現(xiàn)先升高后下降的趨勢(shì),其中B組的抗壓強(qiáng)度和撓曲強(qiáng)度均與對(duì)照組無統(tǒng)計(jì)學(xué)差異(P>0.05)。結(jié)論樹脂基質(zhì)B is-GMA與稀釋劑TEGDMA的質(zhì)量比為7∶3時(shí),新型光固化納米羥基磷灰石復(fù)合材料機(jī)械性能較佳,固化深度能夠達(dá)到國際標(biāo)準(zhǔn),。
