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聚硅氧烷基納米多孔薄膜雙分形結(jié)構(gòu)的同步輻射小角X射線散射分析

編號:NMJS01009

篇名:聚硅氧烷基納米多孔薄膜雙分形結(jié)構(gòu)的同步輻射小角X射線散射分析

作者:高芳亮; 陳宏基; 吳忠華; 李志宏;

關(guān)鍵詞:納米多孔薄膜; 同步輻射小角X射線散射; 分形結(jié)構(gòu);

機構(gòu): 暨南大學(xué)理工學(xué)院材料科學(xué)與工程系; 中國科學(xué)院高能物理研究所同步輻射國家實驗室;

摘要: 以聚硅氧烷基材料為預(yù)聚體,采用兩種核殼型致孔劑,以旋涂工藝分別制備兩組聚硅氧烷基納米多孔薄膜,采用北京同步輻射裝置(BSRF)光源進行了小角X射線散射測試,在掠入射模式(入射角iα=0.2°)下得到了兩組不同孔隙率納米多孔薄膜的二維散射數(shù)據(jù),在此基礎(chǔ)上分析了薄膜的分形特征,發(fā)現(xiàn)所制備的薄膜除試樣A1外,均存在雙分形結(jié)構(gòu),輔以場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)觀測,證實微孔為產(chǎn)生散射的主體,。

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