編號：NMJS00952
篇名：Au/SiO_2納米復合膜的形貌及發(fā)光特性
作者：楊愛春; 李玉國; 卓博世; 鄭學壘; 彭瑞芹;
關鍵詞：金/二氧化硅; 納米復合膜; 濺射; 光致發(fā)光; 納米結構;
機構： 山東師范大學物理與電子科學學院半導體研究所;
摘要： 采用磁控濺射和退火法在Si(111)襯底上制備Au/SiO2納米復合薄膜,并在兩種實驗模式下進行退火處理。模式A:不同的退火溫度,退火20min;模式B:退火溫度1 000℃,不同的退火時間,。用掃描電子顯微鏡(SEM),、X射線衍射方法(XRD)和光致發(fā)光(PL)等測試手段對退火后的Au/SiO2納米復合薄膜的表面形貌、微觀結構和發(fā)光特性進行了分析,。SEM結果表明,在模式A情況下,隨著溫度的增加,Au納米顆粒的大小先增加后減小,這與XRD測試結果相吻合。PL結果表明,在模式B情況下,隨著退火時間的增加,發(fā)光峰強度先增加后減小,。在325nm波長下激發(fā),440nm的發(fā)光峰與Au顆粒的大小和數(shù)量有關,而523nm的發(fā)光峰與納米復合膜的結構有關,這與SEM平面圖相吻合,。實驗結果表明,Au/SiO2納米復合薄膜的表面形貌、微觀結構和發(fā)光特性與退火溫度及退火時間有很強的依賴關系,。
