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電弧法制備的Cr納米粉與Ni共沉積行為的電化學(xué)研究

編號:NMJS00748

篇名:電弧法制備的Cr納米粉與Ni共沉積行為的電化學(xué)研究

作者:宗廣霞; 彭曉;

關(guān)鍵詞:Cr納米粉; 電化學(xué)研究; 共電沉積; 電弧法;

機構(gòu): 中國科學(xué)院金屬研究所金屬腐蝕與防護國家重點實驗室;

摘要: 采用電弧法分別在高低兩種H_2分壓下制備了Cr納米粉(標(biāo)記為Cr_Ⅰ和Cr_Ⅱ).在電解液中浸泡過的兩種Cr納米粉的XPS分析結(jié)果表明,Cr_Ⅱ納米粉表面在電解液中形成的Cr_2O_3膜比Cr_Ⅰ薄.電化學(xué)分析表明,Cr_Ⅱ納米粉表面更易吸附Cl~-,導(dǎo)致其更容易與Ni共電沉積,這是因為表面氧化膜較薄的Cr_Ⅱ粉,氧化膜可被表面吸附的C1~-點蝕而穿透,導(dǎo)電性增強,使得Ni~(2+)更容易在其表面上還原,快速將Cr_Ⅱ嵌入共電沉積層中.

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