編號：FTJS10464
篇名：Y3+摻雜二氧化硅磨料的合成及其在氧化鋯陶瓷中的化學機械拋光行為
作者：代三威 雷紅 付繼芳
關鍵詞： 氧化鋯陶瓷 化學機械拋光 磨料 摻雜二氧化硅 Derjaguin-Landau-Verwey-Overbeek理論
機構： 上海大學材料科學與工程學院 上海大學理學院
摘要： 為提高氧化鋯陶瓷的拋光效率,，在二氧化硅表面摻雜 Y3 + wes 以制備改性磨料。 X 射線光電子發(fā)射能譜分析顯示改性磨料中含有 Y 元素,，其形式為 Y (OH)3,。掃描電子顯微鏡(SEM)和粒度分析結果表明，復合材料磨料為球形,，粒度均勻,，無聚集和二次顆粒出現(xiàn)。與純硅膠磨料相比,，復合磨料的材料去除率(MRR)提高了約33% ,。它還改變了二氧化硅顆粒的 Zet 電位,，減少了二氧化硅和鋯陶瓷表面之間的排斥力,。這增加了二氧化硅和氧化鋯陶瓷片之間的接觸概率,，導致摩擦系數(shù)的增加,。
