編號(hào)：NMJS00731
篇名：等離子體活性燒結(jié)納米碳化硅涂層的實(shí)驗(yàn)研究
作者：黃河激; 付志強(qiáng); 潘文霞; 吳承康;
關(guān)鍵詞：減壓等離子體活性燒結(jié); 碳化硅涂層; 高速沉積;
機(jī)構(gòu)： 中國(guó)力學(xué)學(xué)會(huì)、中國(guó)科學(xué)院高超聲速科技中心,、中國(guó)科學(xué)院力學(xué)研究所
摘要： 利用減壓等離子體活性燒結(jié)制備了碳化硅涂層,。研究了不同等離子體氣流流量,、真空室壓力、電源功率,、基板距離等工藝參數(shù)組合對(duì)涂層質(zhì)量的影響規(guī)律,。通過(guò)正交實(shí)驗(yàn)確定了優(yōu)化工藝參數(shù)組合,在Φ50mm以及50×50mm的較大石墨基板上獲得了厚度和成分均勻,結(jié)合良好的SiC涂層。沉積速率高達(dá)20μm/min,。利用小型電弧等離子體風(fēng)洞對(duì)制備的涂層進(jìn)行了燒蝕實(shí)驗(yàn),結(jié)果表明所制備的涂層在有氧高溫高速氣流環(huán)境下無(wú)剝落,可有效保護(hù)基體石墨,。
