編號：FTJS10225
篇名：氣壓一步燒結(jié)和兩步燒結(jié)對氮化硅陶瓷結(jié)構(gòu)和性能的影響
作者：楊州 李洪滔 張春艷 田中青 曹亮亮 黃福祥 孟范成
關(guān)鍵詞： 氮化硅 氣壓 兩步燒結(jié) 力學(xué)性能 微觀形貌
機(jī)構(gòu)： 重慶理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院 星鑫宇航新材料科技（上海）有限公司
摘要： 以Yb2O3和Al2O3為燒結(jié)助劑,研究氣壓一步燒結(jié)和兩步燒結(jié)工藝對Si3N4陶瓷結(jié)構(gòu)件微觀形貌、力學(xué)性能的影響。結(jié)果表明:一步燒結(jié)長時(shí)間保溫可以減少樣品內(nèi)部孔隙,但是會導(dǎo)致β-Si3N4晶粒異常長大,惡化部分力學(xué)性能,。采用兩步燒結(jié)制備的Si3N4陶瓷相對密度達(dá)98.25%,內(nèi)外結(jié)構(gòu)均一,沒有晶粒異常長大現(xiàn)象;其維氏硬度(HV)為1478,、室溫抗彎強(qiáng)度為832 MPa、高溫(900℃)抗彎強(qiáng)度為646 MPa,、斷裂韌性為7.3 MPa·m1/2,具有優(yōu)良的綜合力學(xué)性能。兩步燒結(jié)是一種有效制備高致密、良好綜合力學(xué)性能Si3N4陶瓷結(jié)構(gòu)件的方法,。
