編號：FTJS10221
篇名：氮化硼納米片改性聚四氟乙烯復(fù)合基板的制備及介電性能研究
作者：謝蘇江 梁邦
關(guān)鍵詞： 氮化硼納米片 聚四氟乙烯 復(fù)合基板 介電性能
機(jī)構(gòu)： 華東理工大學(xué)機(jī)械與動力工程學(xué)院
摘要： 采用濕法混合,、冷壓燒結(jié)工藝制備了氮化硼納米片(BNNSs)改性聚四氟乙烯復(fù)合基板,研究了羥基化處理、硅烷偶聯(lián)劑(KH-792),、氟碳表面活化劑(FC-4430)及可溶性聚四氟乙烯(PFA)處理對BNNSs分散性及復(fù)合基板力學(xué)性能,、介電性能的影響。結(jié)果表明:采用FC-4430和PFA對羥基化BNNSs進(jìn)行功能化處理可以得到性能較優(yōu)異的復(fù)合基板,BNNSs質(zhì)量分?jǐn)?shù)為8%時,BNNSs改性聚四氟乙烯復(fù)合基板的介電常數(shù)為2.44,介電損耗為0.00137,。
